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硅片清洗装置、硅片双面清洗设备及硅片的清洗方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010676267.8
申请日：
2020-07-14
公开(公告)号：
CN111863660A
公开(公告)日：
2020-10-30
发明(设计)人：
左国军
柯国英
李雄朋
申请人：
申请人地址：
213000 江苏省常州市新北区机电工业园宝塔山路9号
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
H01L21677
H01L21683
代理机构：
深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247
代理人：
万景旺
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-11-17 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20200714 |
| 2020-10-30 | 公开 | 公开 |