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适用于半导体制造设备的废气处理系统及半导体制造设备
被引:0
申请号
:
CN202123446469.2
申请日
:
2021-12-31
公开(公告)号
:
CN216849859U
公开(公告)日
:
2022-06-28
发明(设计)人
:
杨春水
申请人
:
申请人地址
:
100176 北京市大兴区北京经济技术开发区凉水河二街8号院14楼A座
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
B01D4600
B01D5300
代理机构
:
北京路浩知识产权代理有限公司 11002
代理人
:
吴欢燕
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-06-28
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体制造设备及半导体制造方法
[P].
林含谕
论文数:
0
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林含谕
;
詹易叡
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詹易叡
;
李芳苇
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李芳苇
;
林立德
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林立德
;
林斌彦
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林斌彦
;
林执中
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林执中
.
中国专利
:CN110323151B
,2019-10-11
[2]
半导体制造设备及半导体制造方法
[P].
李华
论文数:
0
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李华
.
中国专利
:CN111952139A
,2020-11-17
[3]
半导体制造设备、半导体制造方法
[P].
宓晓宇
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机构:
甬江实验室
甬江实验室
宓晓宇
;
高桥岳雄
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机构:
甬江实验室
甬江实验室
高桥岳雄
.
中国专利
:CN119920738A
,2025-05-02
[4]
半导体制造设备
[P].
叶晓岚
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机构:
精材科技股份有限公司
精材科技股份有限公司
叶晓岚
;
卓志宏
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机构:
精材科技股份有限公司
精材科技股份有限公司
卓志宏
;
李泓哲
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机构:
精材科技股份有限公司
精材科技股份有限公司
李泓哲
;
蔡政村
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机构:
精材科技股份有限公司
精材科技股份有限公司
蔡政村
.
中国专利
:CN220400534U
,2024-01-26
[5]
用于半导体制造设备的腔室内衬和半导体制造设备
[P].
项习飞
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项习飞
;
田才忠
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田才忠
;
林保璋
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林保璋
;
李士昌
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李士昌
.
中国专利
:CN217361497U
,2022-09-02
[6]
半导体制造设备
[P].
陈维宁
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陈维宁
;
巫凯雄
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巫凯雄
.
中国专利
:CN110970293A
,2020-04-07
[7]
半导体制造设备
[P].
邓宪哲
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邓宪哲
;
林进富
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林进富
;
吴俊元
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吴俊元
.
中国专利
:CN1779902A
,2006-05-31
[8]
半导体制造设备
[P].
王博汉
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王博汉
;
余振华
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余振华
;
郭宏瑞
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郭宏瑞
;
胡毓祥
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胡毓祥
.
中国专利
:CN112180687A
,2021-01-05
[9]
半导体制造设备
[P].
王立廷
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王立廷
;
陈俊仁
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陈俊仁
;
游明华
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游明华
;
杨育佳
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杨育佳
.
中国专利
:CN115376965A
,2022-11-22
[10]
半导体制造设备
[P].
不公告设计人
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不公告设计人
.
中国专利
:CN307517205S
,2022-08-26
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