溅射靶用氧化铬粉末及溅射靶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680021592.9

申请日：

2006-03-10

公开(公告)号：

CN101198716B

公开(公告)日：

2008-06-11

发明(设计)人：

高见英生矢作政隆

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C01G37033 C04B3512

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

王海川;樊卫民

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-02-16	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101067076613 IPC(主分类):C23C 14/34 专利号:ZL2006800215929 变更事项:专利权人变更前权利人:日矿金属株式会社变更后权利人:JX日矿日石金属株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京都登记生效日:20110104
2010-12-22	授权	授权
2017-04-12	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101749941879 IPC(主分类):C23C 14/34 专利号:ZL2006800215929 变更事项:专利权人变更前:JX日矿日石金属株式会社变更后:捷客斯金属株式会社变更事项:地址变更前:日本东京都变更后:日本东京都
2021-04-27	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 14/34 变更事项:专利权人变更前:捷客斯金属株式会社变更后:捷客斯金属株式会社变更事项:地址变更前:日本东京都变更后:日本东京
2008-06-11	公开	公开
2008-08-06	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

溅射靶制造方法及溅射靶 [P].

斋藤淳 .

中国专利 :CN102959122A ,2013-03-06

[2]

溅射靶及溅射靶制造用接合体 [P].

泷川干雄 .

中国专利 :CN113215540A ,2021-08-06

[3]

溅射靶材、溅射靶、溅射靶用铝板及其制造方法 [P].

竹田博贵 ;

藤田昌宏 .

中国专利 :CN110709532B ,2020-01-17

[4]

溅射靶用铜材料及溅射靶 [P].

矢野翔一郎 ;

坂本敏夫 ;

佐藤志信 .

中国专利 :CN109312425A ,2019-02-05

[5]

溅射靶的制造方法及溅射靶 [P].

藤田昌宏 ;

西冈宏司 .

中国专利 :CN109952389A ,2019-06-28

[6]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

芦小丽 ;

新田纯一 ;

中村晃 ;

佐藤美穂 .

中国专利 :CN111051566A ,2020-04-21

[7]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

和田优 ;

斋藤胜仁 ;

川越裕 ;

武末健太郎 ;

高桥一寿 .

日本专利 :CN113508187B ,2024-02-27

[8]

溅射靶及溅射靶的处理方法 [P].

大场彰 ;

新田纯一 ;

原田宣宏 ;

金丰 ;

美原康雄 .

中国专利 :CN102317498A ,2012-01-11

[9]

溅射靶的制造方法及溅射靶 [P].

泷川干雄 .

中国专利 :CN108350565A ,2018-07-31

[10]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

和田优 ;

斋藤胜仁 ;

川越裕 ;

武末健太郎 ;

高桥一寿 .

中国专利 :CN113544308B ,2021-10-22

← 1 2 3 4 5 →