混合研磨剂抛光组合物及其使用方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480003457.2

申请日：

2004-02-04

公开(公告)号：

CN100355846C

公开(公告)日：

2006-03-15

发明(设计)人：

阿特纳福·N·查尼耶利夫孙韬

申请人：

申请人地址：

美国伊利诺伊州

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

C09K314 H01L21321 H01L21768

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

宋莉;贾静环

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-05-10	实质审查的生效	实质审查的生效
2021-01-15	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20040204 授权公告日:20071219 终止日期:20200204
2007-12-19	授权	授权
2006-03-15	公开	公开

共 50 条

[1]

混合研磨剂型抛光组合物 [P].

B.赖斯 ;

J.娜拉斯科斯基 ;

V.拉姆 ;

R.贾 ;

J.戴萨德 .

中国专利 :CN105814163B ,2016-07-27

[2]

研磨剂组合物以及使用研磨剂组合物的研磨方法 [P].

后藤优治 ;

堀本真树 ;

原口哲朗 ;

巢河慧 .

日本专利 :CN120648439A ,2025-09-16

[3]

研磨剂组合物以及使用研磨剂组合物的研磨方法 [P].

后藤优治 ;

堀本真树 ;

原口哲朗 ;

巢河慧 .

日本专利 :CN116323842B ,2025-05-30

[4]

磷酸研磨剂及其使用方法 [P].

桂秦源 ;

高鹏 ;

沈澄 ;

何美佳 .

美国专利 :CN120077492A ,2025-05-30

[5]

研磨剂组合物 [P].

川原彰裕 ;

内藤健治 .

日本专利 :CN113444454B ,2024-04-05

[6]

包含铈土研磨剂的抛光组合物 [P].

B.赖斯 ;

D.索特范内斯 ;

林越 ;

A.海恩斯 ;

S.克拉夫特 ;

贾仁合 .

中国专利 :CN107427988A ,2017-12-01

[7]

研磨剂组合物 [P].

川原彰裕 ;

内藤健治 .

中国专利 :CN113444454A ,2021-09-28

[8]

研磨剂组合物 [P].

川原彰裕 ;

内藤健治 .

中国专利 :CN113444455A ,2021-09-28

[9]

研磨剂组合物 [P].

川原彰裕 ;

内藤健治 .

中国专利 :CN113493652A ,2021-10-12

[10]

研磨剂组合物 [P].

川原彰裕 ;

内藤健治 .

日本专利 :CN113493652B ,2024-05-28

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