混合研磨剂型抛光组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480067701.5

申请日：

2014-09-30

公开(公告)号：

CN105814163B

公开(公告)日：

2016-07-27

发明(设计)人：

B.赖斯 J.娜拉斯科斯基 V.拉姆 R.贾 J.戴萨德

申请人：

申请人地址：

美国伊利诺伊州

IPC主分类号：

C09K314

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

宋莉;邢岳

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-08-24	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101675840440 IPC(主分类):C09K 3/14 专利申请号:2014800677015 申请日:20140930
2021-09-07	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C09K 3/14 变更事项:专利权人变更前:嘉柏微电子材料股份公司变更后:CMC材料股份有限公司变更事项:地址变更前:美国伊利诺伊州变更后:美国伊利诺伊州
2017-12-08	授权	授权
2016-07-27	公开	公开

共 50 条

[1]

混合研磨剂型的钨化学机械抛光组合物 [P].

S.格拉姆宾 ;

J.戴萨德 .

中国专利 :CN106414650A ,2017-02-15

[2]

混合研磨剂型的钨化学机械抛光组合物 [P].

W.沃德 ;

G.怀特纳 ;

S.格拉姆宾 ;

J.戴萨德 .

中国专利 :CN106415796B ,2017-02-15

[3]

包含铈土研磨剂的抛光组合物 [P].

B.赖斯 ;

D.索特范内斯 ;

林越 ;

A.海恩斯 ;

S.克拉夫特 ;

贾仁合 .

中国专利 :CN107427988A ,2017-12-01

[4]

混合研磨剂抛光组合物及其使用方法 [P].

阿特纳福·N·查尼耶利夫 ;

孙韬 .

中国专利 :CN100355846C ,2006-03-15

[5]

含新型研磨剂的化学机械抛光组合物 [P].

A.W.海恩斯 ;

K.朗格 ;

S.格鲁宾 ;

R.A.伊万诺夫 ;

K.P.多克里 ;

B.佩特罗 ;

B.斯尼德 ;

G.克里洛瓦 .

美国专利 :CN115298276B ,2024-07-30

[6]

利用经氨基硅烷处理的研磨剂颗粒的抛光组合物和方法 [P].

史蒂文·格鲁姆比恩 ;

李守田 ;

威廉·沃德 ;

潘卡耶·辛格 ;

杰弗里·戴萨德 .

中国专利 :CN101802116A ,2010-08-11

[7]

研磨剂组合物 [P].

川原彰裕 ;

内藤健治 .

日本专利 :CN113444454B ,2024-04-05

[8]

研磨剂组合物 [P].

川原彰裕 ;

内藤健治 .

中国专利 :CN113444454A ,2021-09-28

[9]

研磨剂组合物 [P].

川原彰裕 ;

内藤健治 .

中国专利 :CN113444455A ,2021-09-28

[10]

研磨剂组合物 [P].

川原彰裕 ;

内藤健治 .

中国专利 :CN113493652A ,2021-10-12

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