用于使用偏轴旋转光学系统照射激光束的方法和设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810145857.7

申请日：

2008-08-07

公开(公告)号：

CN101393374A

公开(公告)日：

2009-03-25

发明(设计)人：

李亿基朴钟国李致炯

申请人：

申请人地址：

韩国首尔

IPC主分类号：

G02F135

IPC分类号：

G02B2600 H01C17242 H01S300 H05K116

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司

代理人：

余刚;尚志峰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-03-25	公开	公开
2011-07-13	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101114490995 IPC(主分类):G02F 1/35 专利申请号:2008101458577 公开日:20090325
2009-05-20	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

激光束均匀照射的光学系统 [P].

岡本達樹 ;

森川和敏 ;

佐藤行雄 ;

西前順一 ;

小川哲也 .

中国专利 :CN1249483C ,2003-10-15

[2]

激光束均匀辐照光学系统 [P].

江秀娟 .

中国专利 :CN202133821U ,2012-02-01

[3]

用于将激光束耦合至多包层光纤中的设备和光学系统 [P].

J·黑尔斯特恩 ;

T·戈特瓦尔德 ;

F·丹杰洛 .

德国专利 :CN119630998A ,2025-03-14

[4]

用于照射激光束的光学模块 [P].

金佖奎 ;

韩圭完 ;

柳济吉 ;

金兑龙 ;

金硕焕 ;

金成坤 .

中国专利 :CN103424866A ,2013-12-04

[5]

一种激光束均匀辐照光学系统 [P].

江秀娟 .

中国专利 :CN102253493A ,2011-11-23

[6]

激光束照射设备和基板密封方法 [P].

李廷敏 .

中国专利 :CN103878497A ,2014-06-25

[7]

用于引导激光束的设备和方法 [P].

A.米夏洛夫斯基 ;

D.特韦勒 ;

A.恩格尔迈尔 .

中国专利 :CN105683808A ,2016-06-15

[8]

用于激光束均匀化的光学系统及包括其的激光热处理装置 [P].

埃米尔·阿斯拉诺夫 ;

亚历山大·沃罗诺夫 ;

朴喆镐 ;

韩圭完 .

韩国专利 :CN112305772B ,2024-11-29

[9]

用于激光束均匀化的光学系统及包括其的激光热处理装置 [P].

埃米尔·阿斯拉诺夫 ;

亚历山大·沃罗诺夫 ;

朴喆镐 ;

韩圭完 .

中国专利 :CN112305772A ,2021-02-02

[10]

双光束激光加工光学系统 [P].

秦应雄 ;

李玫瑰 ;

唐霞辉 .

中国专利 :CN110076450A ,2019-08-02

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