激光束均匀照射的光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03108378.1

申请日：

2003-03-28

公开(公告)号：

CN1249483C

公开(公告)日：

2003-10-15

发明(设计)人：

岡本達樹森川和敏佐藤行雄西前順一小川哲也

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B2710

IPC分类号：

G02B2728 H01L21324 H01S300

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

王以平

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2003-10-15	公开	公开
2022-03-11	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 27/10 申请日:20030328 授权公告日:20060405 终止日期:20210328
2003-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-04-05	授权	授权

共 50 条

[1]

激光束均匀辐照光学系统 [P].

江秀娟 .

中国专利 :CN202133821U ,2012-02-01

[2]

一种激光束均匀辐照光学系统 [P].

江秀娟 .

中国专利 :CN102253493A ,2011-11-23

[3]

用于使用偏轴旋转光学系统照射激光束的方法和设备 [P].

李亿基 ;

朴钟国 ;

李致炯 .

中国专利 :CN101393374A ,2009-03-25

[4]

激光束照射装置以及激光束照射方法 [P].

田中幸一郎 .

中国专利 :CN101000863B ,2007-07-18

[5]

用于激光束均匀化的光学系统及包括其的激光热处理装置 [P].

埃米尔·阿斯拉诺夫 ;

亚历山大·沃罗诺夫 ;

朴喆镐 ;

韩圭完 .

韩国专利 :CN112305772B ,2024-11-29

[6]

用于激光束均匀化的光学系统及包括其的激光热处理装置 [P].

埃米尔·阿斯拉诺夫 ;

亚历山大·沃罗诺夫 ;

朴喆镐 ;

韩圭完 .

中国专利 :CN112305772A ,2021-02-02

[7]

用于照射激光束的光学模块 [P].

金佖奎 ;

韩圭完 ;

柳济吉 ;

金兑龙 ;

金硕焕 ;

金成坤 .

中国专利 :CN103424866A ,2013-12-04

[8]

双光束激光加工光学系统 [P].

秦应雄 ;

李玫瑰 ;

唐霞辉 .

中国专利 :CN110076450A ,2019-08-02

[9]

双光束激光加工光学系统 [P].

秦应雄 ;

李玫瑰 ;

唐霞辉 .

中国专利 :CN210548825U ,2020-05-19

[10]

一种产生高精度准直空心激光束的光学系统 [P].

江萍 ;

杨华军 ;

毛盛乾 .

中国专利 :CN104536150A ,2015-04-22

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