一种可正性光刻胶用聚酰亚胺树脂及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911146652.5

申请日：

2019-11-21

公开(公告)号：

CN111303422A

公开(公告)日：

2020-06-19

发明(设计)人：

不公告发明人

申请人：

申请人地址：

201805 上海市嘉定区安亭镇阜康西路28弄4号1001

IPC主分类号：

C08G7310

IPC分类号：

G03F7039

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-19	公开	公开
2020-07-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C08G 73/10 申请日:20191121

共 50 条

[1]

正性光刻胶用聚酰亚胺树脂及其制备方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN111423582A ,2020-07-17

[2]

一种可用作正性光刻胶的聚酰亚胺树脂及其制备方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN111303421A ,2020-06-19

[3]

正性光刻胶用聚酰亚胺树脂及其制备方法和应用 [P].

毛鸿超 ;

李禾禾 ;

王静 ;

陈晓东 ;

肖楠 .

中国专利 :CN116655913B ,2024-12-20

[4]

聚酰亚胺正性光刻胶组合物及其应用 [P].

王思恩 ;

陶克文 ;

李永彪 ;

罗雄科 .

中国专利 :CN117930589A ,2024-04-26

[5]

一种正性光敏聚酰亚胺树脂、光刻胶及其制备方法与应用 [P].

冯荣 ;

李露瑶 ;

郭佳美 .

中国专利 :CN120699253A ,2025-09-26

[6]

负性光敏聚酰亚胺光刻胶及其制备方法、聚酰亚胺薄膜和应用 [P].

曹志文 ;

郑爽 .

中国专利 :CN119024643A ,2024-11-26

[7]

一种光敏聚酰亚胺光刻胶及其制备方法 [P].

张艺 ;

孟惠发 ;

陈铠津 ;

蒋星 ;

刘四委 ;

许家瑞 .

中国专利 :CN119620537A ,2025-03-14

[8]

一种光敏聚酰亚胺光刻胶及其制备方法 [P].

张艺 ;

孟惠发 ;

陈铠津 ;

蒋星 ;

刘四委 ;

许家瑞 .

中国专利 :CN119620537B ,2025-10-24

[9]

可低温固化的聚酰亚胺树脂、光刻胶组合物及其制备方法 [P].

洪勇波 ;

刘斌 ;

向文胜 ;

胡泽明 ;

张兵 ;

赵建龙 ;

谢立洋 ;

程晋广 .

中国专利 :CN117757070A ,2024-03-26

[10]

一种紫外正性光刻胶 [P].

宋振 ;

杨志锋 ;

黄顺礼 ;

陆煜东 ;

郑安丽 ;

许振良 ;

林柳武 .

中国专利 :CN109062008B ,2018-12-21

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