聚酰亚胺正性光刻胶组合物及其应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410115592.5

申请日：

2024-01-26

公开(公告)号：

CN117930589A

公开(公告)日：

2024-04-26

发明(设计)人：

王思恩陶克文李永彪罗雄科

申请人：

上海泽丰半导体科技有限公司华东理工大学

申请人地址：

201306 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区翠波路201、221号1幢4层404室

IPC主分类号：

G03F7/039

IPC分类号：

G03F7/004 C08G73/10 H01L23/29

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

辛元石

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

上海市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-05-14	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/039申请日:20240126
2024-04-26	公开	公开

共 50 条

[1]

正性光刻胶用聚酰亚胺树脂及其制备方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN111423582A ,2020-07-17

[2]

正性光刻胶用聚酰亚胺树脂及其制备方法和应用 [P].

毛鸿超 ;

李禾禾 ;

王静 ;

陈晓东 ;

肖楠 .

中国专利 :CN116655913B ,2024-12-20

[3]

聚酰亚胺正型光刻胶组合物 [P].

林诣婕 ;

蔡芸慈 ;

林伯南 ;

叶子瑭 ;

周乃天 ;

黄新义 ;

林昭文 .

中国专利 :CN112859523A ,2021-05-28

[4]

聚酰亚胺正型光刻胶组合物 [P].

林诣婕 ;

蔡芸慈 ;

林伯南 ;

叶子瑭 ;

周乃天 ;

黄新义 ;

林昭文 .

中国专利 :CN112859523B ,2024-04-26

[5]

正性光刻胶组合物及其应用 [P].

余亮 ;

高晓义 ;

于洪超 .

中国专利 :CN120233631A ,2025-07-01

[6]

正性光刻胶组合物及其制备方法、应用 [P].

周元基 .

中国专利 :CN114089602B ,2025-08-01

[7]

正性光刻胶组合物及其制备方法、应用 [P].

周元基 .

中国专利 :CN114089602A ,2022-02-25

[8]

正性光刻胶 [P].

徐亮 ;

季昌彬 .

中国专利 :CN107728427A ,2018-02-23

[9]

聚酰亚胺光刻胶及其使用方法 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN111722470A ,2020-09-29

[10]

一种可正性光刻胶用聚酰亚胺树脂及其制备方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN111303422A ,2020-06-19

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