聚酰亚胺光刻胶及其使用方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010553260.7

申请日：

2020-06-17

公开(公告)号：

CN111722470A

公开(公告)日：

2020-09-29

发明(设计)人：

王晓伟

申请人：

申请人地址：

215000 江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城12幢401-88

IPC主分类号：

G03F7004

IPC分类号：

G03F7027

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

向薇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-09-29	公开	公开
2020-10-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20200617

共 50 条

[1]

聚酰亚胺正型光刻胶组合物 [P].

林诣婕 ;

蔡芸慈 ;

林伯南 ;

叶子瑭 ;

周乃天 ;

黄新义 ;

林昭文 .

中国专利 :CN112859523A ,2021-05-28

[2]

聚酰亚胺正型光刻胶组合物 [P].

林诣婕 ;

蔡芸慈 ;

林伯南 ;

叶子瑭 ;

周乃天 ;

黄新义 ;

林昭文 .

中国专利 :CN112859523B ,2024-04-26

[3]

聚酰亚胺正性光刻胶组合物及其应用 [P].

王思恩 ;

陶克文 ;

李永彪 ;

罗雄科 .

中国专利 :CN117930589A ,2024-04-26

[4]

可低温固化的聚酰亚胺树脂、光刻胶组合物及其制备方法 [P].

洪勇波 ;

刘斌 ;

向文胜 ;

胡泽明 ;

张兵 ;

赵建龙 ;

谢立洋 ;

程晋广 .

中国专利 :CN117757070A ,2024-03-26

[5]

正性光刻胶用聚酰亚胺树脂及其制备方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN111423582A ,2020-07-17

[6]

耐高温聚酰亚胺光刻胶及其制备方法、应用 [P].

王凯 ;

严翔 ;

薛钰铸 .

中国专利 :CN114879449B ,2025-11-07

[7]

耐高温聚酰亚胺光刻胶及其制备方法、应用 [P].

王凯 ;

严翔 ;

薛钰铸 .

中国专利 :CN114879449A ,2022-08-09

[8]

负性光敏聚酰亚胺光刻胶及其制备方法、聚酰亚胺薄膜和应用 [P].

曹志文 ;

郑爽 .

中国专利 :CN119024643A ,2024-11-26

[9]

一种光敏聚酰亚胺光刻胶及其制备方法 [P].

张艺 ;

孟惠发 ;

陈铠津 ;

蒋星 ;

刘四委 ;

许家瑞 .

中国专利 :CN119620537A ,2025-03-14

[10]

一种光敏聚酰亚胺光刻胶及其制备方法 [P].

张艺 ;

孟惠发 ;

陈铠津 ;

蒋星 ;

刘四委 ;

许家瑞 .

中国专利 :CN119620537B ,2025-10-24

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