耐高温聚酰亚胺光刻胶及其制备方法、应用

被引：0

申请号：

CN202210447258.0

申请日：

2022-04-27

公开(公告)号：

CN114879449A

公开(公告)日：

2022-08-09

发明(设计)人：

王凯严翔薛钰铸

申请人：

申请人地址：

214434 江苏省无锡市江阴市高新区澄江东路99号

IPC主分类号：

G03F7004

IPC分类号：

G03F7038 G03F716

代理机构：

江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙) 32309

代理人：

苏玲

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20220427
2022-08-09	公开	公开

共 50 条

[1]

耐高温聚酰亚胺光刻胶及其制备方法、应用 [P].

王凯 ;

严翔 ;

薛钰铸 .

中国专利 :CN114879449B ,2025-11-07

[2]

负性光敏聚酰亚胺光刻胶及其制备方法、聚酰亚胺薄膜和应用 [P].

曹志文 ;

郑爽 .

中国专利 :CN119024643A ,2024-11-26

[3]

一种离子型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法和应用 [P].

汪峰 ;

田玉奎 ;

叶徐鹏 ;

史恩台 ;

孙善卫 ;

刘明阳 .

中国专利 :CN121226716A ,2025-12-30

[4]

一种光敏聚酰亚胺光刻胶及其制备方法 [P].

张艺 ;

孟惠发 ;

陈铠津 ;

蒋星 ;

刘四委 ;

许家瑞 .

中国专利 :CN119620537A ,2025-03-14

[5]

一种光敏聚酰亚胺光刻胶及其制备方法 [P].

张艺 ;

孟惠发 ;

陈铠津 ;

蒋星 ;

刘四委 ;

许家瑞 .

中国专利 :CN119620537B ,2025-10-24

[6]

聚酰亚胺光刻胶及其使用方法 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN111722470A ,2020-09-29

[7]

聚酰亚胺正性光刻胶组合物及其应用 [P].

王思恩 ;

陶克文 ;

李永彪 ;

罗雄科 .

中国专利 :CN117930589A ,2024-04-26

[8]

一种负性光敏聚酰亚胺光刻胶和聚酰亚胺薄膜及其应用 [P].

郭海泉 ;

李泽宇 ;

时舜 ;

张春华 ;

马姣姣 ;

杨正华 .

中国专利 :CN120559946A ,2025-08-29

[9]

正性光刻胶用聚酰亚胺树脂及其制备方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN111423582A ,2020-07-17

[10]

正性光刻胶用聚酰亚胺树脂及其制备方法和应用 [P].

毛鸿超 ;

李禾禾 ;

王静 ;

陈晓东 ;

肖楠 .

中国专利 :CN116655913B ,2024-12-20

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