正性光刻胶组合物及其应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410700017.1

申请日：

2024-05-31

公开(公告)号：

CN120233631A

公开(公告)日：

2025-07-01

发明(设计)人：

余亮高晓义于洪超

申请人：

苏州凯芯半导体材料有限公司

申请人地址：

215634 江苏省苏州市张家港保税区港澳路15号传感产业园大楼一楼113室

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/039

代理机构：

北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138

代理人：

蔡静

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-18	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20240531
2025-07-01	公开	公开

共 50 条

[1]

正性光刻胶组合物及其制备方法、应用 [P].

周元基 .

中国专利 :CN114089602B ,2025-08-01

[2]

正性光刻胶组合物及其制备方法、应用 [P].

周元基 .

中国专利 :CN114089602A ,2022-02-25

[3]

一种正性光刻胶组合物及其应用 [P].

王璨 ;

张宁 ;

李冰 ;

鲁代仁 ;

裴坚 ;

董栋 .

中国专利 :CN120386143A ,2025-07-29

[4]

聚酰亚胺正性光刻胶组合物及其应用 [P].

王思恩 ;

陶克文 ;

李永彪 ;

罗雄科 .

中国专利 :CN117930589A ,2024-04-26

[5]

正性光刻胶 [P].

徐亮 ;

季昌彬 .

中国专利 :CN107728427A ,2018-02-23

[6]

一种正性光刻胶组合物及其应用 [P].

霍建辉 ;

张兵 ;

向文胜 ;

赵建龙 ;

陆晓健 ;

袁会芳 ;

周浩杰 ;

李双庆 ;

董仲舒 .

中国专利 :CN121187074A ,2025-12-23

[7]

一种正性光刻胶组合物及其应用 [P].

张磊 ;

于泽琦 .

中国专利 :CN120447304A ,2025-08-08

[8]

一种正性光刻胶组合物及其应用 [P].

祁实 ;

刘永祥 ;

韩红彦 ;

杨鹏 .

中国专利 :CN120447302A ,2025-08-08

[9]

化学放大正性光刻胶组合物 [P].

安藤信雄 ;

藤裕介 ;

武元一树 .

中国专利 :CN101021683A ,2007-08-22

[10]

一种正性光刻胶组合物 [P].

何卿 ;

胡凡华 ;

朴大然 ;

卢克军 ;

张宁 .

中国专利 :CN113946099A ,2022-01-18

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