一种厚膜光刻胶显影工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911051718.2

申请日：

2019-10-31

公开(公告)号：

CN112748646A

公开(公告)日：

2021-05-04

发明(设计)人：

张德强朴勇男邢栗关丽张晨阳孙洪君王延明

申请人：

申请人地址：

110168 辽宁省沈阳市浑南区飞云路16号

IPC主分类号：

G03F730

IPC分类号：

代理机构：

沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002

代理人：

于晓波

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/30 申请日:20191031
2021-05-04	公开	公开

共 50 条

[1]

一种厚膜负性光刻胶的显影方法 [P].

姜琪 ;

谢云竹 ;

张琳 ;

李兴辉 ;

潘攀 ;

蔡军 ;

冯进军 .

中国专利 :CN115437226B ,2025-12-19

[2]

一种厚膜负性光刻胶的显影方法 [P].

姜琪 ;

谢云竹 ;

张琳 ;

李兴辉 ;

潘攀 ;

蔡军 ;

冯进军 .

中国专利 :CN115437226A ,2022-12-06

[3]

光刻胶显影方法 [P].

刘希仕 ;

王绪根 ;

朱联合 ;

姚振海 .

中国专利 :CN118189552A ,2024-06-14

[4]

光刻胶显影工艺及其装置 [P].

金海涛 ;

徐飞 ;

王夏 .

中国专利 :CN102109776A ,2011-06-29

[5]

光刻胶的显影工艺 [P].

武藤章 .

中国专利 :CN1096702C ,1999-02-10

[6]

光刻胶显影装置 [P].

金海猷 .

中国专利 :CN203630511U ,2014-06-04

[7]

一种光刻胶显影残渣去除方法 [P].

方小磊 ;

叶武阳 ;

刘耀聪 ;

李天成 ;

吕磊 ;

蔡雨杉 .

中国专利 :CN112859555A ,2021-05-28

[8]

正性光刻胶用显影液及光刻工艺中的显影方法 [P].

姚广福 ;

钱志浩 .

中国专利 :CN102540771A ,2012-07-04

[9]

一种新型光刻胶显影装置 [P].

王晓龙 ;

姚俊俊 .

中国专利 :CN209590540U ,2019-11-05

[10]

一种光刻胶浸泡显影装置 [P].

赵畅 ;

徐佳坤 ;

梁荣峰 .

中国专利 :CN221507324U ,2024-08-09

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