一种光刻胶浸泡显影装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202323333693.X

申请日：

2023-12-07

公开(公告)号：

CN221507324U

公开(公告)日：

2024-08-09

发明(设计)人：

赵畅徐佳坤梁荣峰

申请人：

上海明士华新材料有限公司

申请人地址：

201108 上海市闵行区中春路1088号19幢

IPC主分类号：

G03F7/30

IPC分类号：

代理机构：

上海熠涧知识产权代理有限公司 31442

代理人：

林高锋

法律状态：

授权

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-08-09	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻胶显影装置 [P].

金海猷 .

中国专利 :CN203630511U ,2014-06-04

[2]

光刻胶显影方法 [P].

刘希仕 ;

王绪根 ;

朱联合 ;

姚振海 .

中国专利 :CN118189552A ,2024-06-14

[3]

一种新型光刻胶显影装置 [P].

王晓龙 ;

姚俊俊 .

中国专利 :CN209590540U ,2019-11-05

[4]

一种光刻胶显影残渣去除方法 [P].

方小磊 ;

叶武阳 ;

刘耀聪 ;

李天成 ;

吕磊 ;

蔡雨杉 .

中国专利 :CN112859555A ,2021-05-28

[5]

一种厚膜光刻胶显影工艺 [P].

张德强 ;

朴勇男 ;

邢栗 ;

关丽 ;

张晨阳 ;

孙洪君 ;

王延明 .

中国专利 :CN112748646A ,2021-05-04

[6]

一种新型光刻胶显影装置及显影方法 [P].

王晓龙 ;

姚俊俊 .

中国专利 :CN109375481A ,2019-02-22

[7]

光刻胶显影工艺及其装置 [P].

金海涛 ;

徐飞 ;

王夏 .

中国专利 :CN102109776A ,2011-06-29

[8]

一种PCB光刻胶除去装置和光刻胶去除方法 [P].

傅百军 ;

傅嘉炜 ;

陈玉峰 .

中国专利 :CN115268237B ,2024-10-29

[9]

一种光刻胶去除机构 [P].

原子健 ;

李晓杰 .

中国专利 :CN211123623U ,2020-07-28

[10]

一种光刻胶显影点测试设备 [P].

宋慧洁 ;

赖桢岚 ;

张同锦 .

中国专利 :CN220962138U ,2024-05-14

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