一种光刻胶去除机构

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201921325353.3

申请日：

2019-08-15

公开(公告)号：

CN211123623U

公开(公告)日：

2020-07-28

发明(设计)人：

原子健李晓杰

申请人：

申请人地址：

459000 河南省焦作市济源市高新技术产业集聚区内

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

代理机构：

北京天盾知识产权代理有限公司 11421

代理人：

卓邦荣

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-28	授权	授权

共 50 条

[1]

一种PCB光刻胶除去装置和光刻胶去除方法 [P].

傅百军 ;

傅嘉炜 ;

陈玉峰 .

中国专利 :CN115268237B ,2024-10-29

[2]

光刻胶的去除方法 [P].

杨峰 ;

谭宗良 .

中国专利 :CN102082089A ,2011-06-01

[3]

光刻胶去除方法 [P].

萧忠仁 ;

陈雅萍 ;

林建宏 ;

刘文斌 ;

陈志文 .

中国专利 :CN110716399A ,2020-01-21

[4]

光刻胶去除方法以及光刻胶去除系统 [P].

赵仲平 ;

张文龙 ;

戴茂春 ;

淮赛男 ;

周宇 .

中国专利 :CN113721430B ,2021-11-30

[5]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[6]

光刻胶去除设备及光刻胶去除方法 [P].

邢程 ;

朱振华 .

中国专利 :CN113687575A ,2021-11-23

[7]

光刻胶去除装置和去除光刻胶的方法 [P].

张凇铭 ;

惠世鹏 ;

刘效岩 .

中国专利 :CN111610698A ,2020-09-01

[8]

光刻胶的去除方法 [P].

刘佑铭 .

中国专利 :CN101354542A ,2009-01-28

[9]

一种新型光刻胶去除工艺 [P].

郭光辉 .

中国专利 :CN114545746A ,2022-05-27

[10]

一种光刻胶的去除方法 [P].

刘佑铭 ;

朴松源 .

中国专利 :CN101398637A ,2009-04-01

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