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一种热解氮化硼坩埚表层镀膜方法及装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200510012052.1
申请日：
2005-06-30
公开(公告)号：
CN1888126A
公开(公告)日：
2007-01-03
发明(设计)人：
高永亮
惠峰
王文军
申请人：
申请人地址：
100083北京市海淀区清华东路甲35号
IPC主分类号：
C23C1408
IPC分类号：
C23C1424
C30B1500
F27B1410
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人：
段成云
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2007-02-28 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |
| 2009-06-03 | 授权 | 授权 |
| 2007-01-03 | 公开 | 公开 |
| 2008-12-10 | 专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) | 专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) 变更事项:申请人 变更前权利人:中国科学院半导体研究所 变更后权利人:云南中科鑫圆晶体材料有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:北京市海淀区清华东路甲35号 邮政编码:100083 变更后权利人:云南省昆明市高新区二环西路398号高新科技信息中心主楼 邮政编码:650000 登记生效日:20081107 |