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复合离子源及其使用方法和质谱仪
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910303940.0
申请日
:
2019-04-16
公开(公告)号
:
CN111834195A
公开(公告)日
:
2020-10-27
发明(设计)人
:
岑延相
吴曼曼
黄豆
李辉
邓伟
申请人
:
申请人地址
:
510700 广东省广州市黄埔区开源大道11号科技企业加速器A3栋3层
IPC主分类号
:
H01J4926
IPC分类号
:
H01J4910
H01J4914
H01J4916
代理机构
:
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人
:
林青中;万志香
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-10-27
公开
公开
2020-11-13
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 49/26 申请日:20190416
共 50 条
[1]
复合离子源装置及质谱仪
[P].
张小华
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张小华
;
张华
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张华
;
商颖健
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商颖健
;
薛孟谦
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薛孟谦
.
中国专利
:CN103295872A
,2013-09-11
[2]
复合离子源装置及质谱仪
[P].
张小华
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张小华
;
张华
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张华
;
商颖健
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商颖健
;
薛孟谦
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薛孟谦
.
中国专利
:CN202454525U
,2012-09-26
[3]
复合离子源及质谱仪
[P].
黄泽建
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黄泽建
;
方向
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方向
;
江游
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江游
;
戴新华
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戴新华
;
龚晓云
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龚晓云
;
谢洁
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谢洁
;
翟睿
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翟睿
;
刘梅英
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刘梅英
.
中国专利
:CN209843660U
,2019-12-24
[4]
离子源腔体、离子源和质谱仪
[P].
黄晓圳
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黄晓圳
;
施继坚
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施继坚
;
黄飞鸿
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黄飞鸿
;
江高雄
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江高雄
;
吴思瑶
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吴思瑶
.
中国专利
:CN217214635U
,2022-08-16
[5]
离子源和质谱仪
[P].
艾德里安·兰德
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艾德里安·兰德
;
斯图尔特·C·汉森
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斯图尔特·C·汉森
.
中国专利
:CN203386713U
,2014-01-08
[6]
离子源、质谱仪、离子源控制方法
[P].
长谷川英树
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长谷川英树
;
杉山益之
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杉山益之
;
桥本雄一郎
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桥本雄一郎
.
中国专利
:CN115104173A
,2022-09-23
[7]
离子源、质谱仪、离子源控制方法
[P].
长谷川英树
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
长谷川英树
;
杉山益之
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
杉山益之
;
桥本雄一郎
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
桥本雄一郎
.
日本专利
:CN115104173B
,2025-05-16
[8]
复合离子源
[P].
何坚
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何坚
.
中国专利
:CN202172061U
,2012-03-21
[9]
质谱仪、离子源及其离子传输结构
[P].
陈政阁
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陈政阁
;
洪义
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洪义
.
中国专利
:CN114334600A
,2022-04-12
[10]
离子源及质谱仪
[P].
喻佳俊
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喻佳俊
;
朱星高
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朱星高
;
刘平
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刘平
;
曾真
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曾真
;
代新
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代新
;
陈颖
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陈颖
.
中国专利
:CN107895684A
,2018-04-10
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