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等离子体处理方法和等离子体处理装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202080024028.2
申请日
:
2020-03-23
公开(公告)号
:
CN113615322A
公开(公告)日
:
2021-11-05
发明(设计)人
:
镰田英纪
佐藤干夫
池田太郎
山本伸彦
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H05H146
IPC分类号
:
H01L21205
H01L213065
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;池兵
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-11-05
公开
公开
2021-11-23
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/46 申请日:20200323
共 50 条
[1]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
镰田英纪
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
镰田英纪
;
佐藤干夫
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤干夫
;
池田太郎
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
池田太郎
;
山本伸彦
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山本伸彦
.
日本专利
:CN113615322B
,2024-08-02
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
镰田英纪
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
镰田英纪
;
池田太郎
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
池田太郎
;
佐藤干夫
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤干夫
;
山本伸彦
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山本伸彦
.
日本专利
:CN112788826B
,2024-09-13
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
镰田英纪
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镰田英纪
;
池田太郎
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池田太郎
;
佐藤干夫
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佐藤干夫
;
山本伸彦
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山本伸彦
.
中国专利
:CN112788826A
,2021-05-11
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
池田太郎
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池田太郎
;
久保敦史
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久保敦史
;
镰田英纪
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镰田英纪
;
山本伸彦
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山本伸彦
.
中国专利
:CN112509900A
,2021-03-16
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
池田太郎
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
池田太郎
;
久保敦史
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
久保敦史
;
镰田英纪
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
镰田英纪
;
山本伸彦
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山本伸彦
.
日本专利
:CN112509900B
,2024-05-31
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
山泽阳平
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山泽阳平
.
中国专利
:CN102194639B
,2011-09-21
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
山泽阳平
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山泽阳平
;
齐藤昌司
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齐藤昌司
;
传宝一树
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传宝一树
;
輿水地盐
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輿水地盐
;
山涌纯
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山涌纯
.
中国专利
:CN102056396A
,2011-05-11
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
镰田英纪
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0
镰田英纪
;
池田太郎
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池田太郎
;
古屋治彦
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古屋治彦
.
中国专利
:CN114107950A
,2022-03-01
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
米泽亮太
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米泽亮太
;
高桥哲朗
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高桥哲朗
;
大崎良规
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大崎良规
;
铃木公贵
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铃木公贵
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齐藤智博
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齐藤智博
;
山下润
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山下润
;
佐藤吉宏
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佐藤吉宏
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盐泽俊彦
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盐泽俊彦
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山崎幸一
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山崎幸一
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古木和弘
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古木和弘
.
中国专利
:CN102753727A
,2012-10-24
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
田才忠
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田才忠
;
野泽俊久
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野泽俊久
.
中国专利
:CN101347051B
,2009-01-14
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