等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010920018.9

申请日：

2020-09-04

公开(公告)号：

CN112509900B

公开(公告)日：

2024-05-31

发明(设计)人：

池田太郎久保敦史镰田英纪山本伸彦

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01Q1/22 H01Q9/30 H01Q21/00

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-05-31	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

池田太郎 ;

久保敦史 ;

镰田英纪 ;

山本伸彦 .

中国专利 :CN112509900A ,2021-03-16

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

镰田英纪 ;

池田太郎 ;

佐藤干夫 ;

山本伸彦 .

日本专利 :CN112788826B ,2024-09-13

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

镰田英纪 ;

池田太郎 ;

佐藤干夫 ;

山本伸彦 .

中国专利 :CN112788826A ,2021-05-11

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

镰田英纪 ;

池田太郎 ;

古屋治彦 .

中国专利 :CN114107950A ,2022-03-01

[5]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

镰田英纪 ;

佐藤干夫 ;

池田太郎 ;

山本伸彦 .

中国专利 :CN113615322A ,2021-11-05

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

米泽亮太 ;

高桥哲朗 ;

大崎良规 ;

铃木公贵 ;

齐藤智博 ;

山下润 ;

佐藤吉宏 ;

盐泽俊彦 ;

山崎幸一 ;

古木和弘 .

中国专利 :CN102753727A ,2012-10-24

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

田才忠 ;

野泽俊久 .

中国专利 :CN101347051B ,2009-01-14

[8]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

镰田英纪 ;

佐藤干夫 ;

池田太郎 ;

山本伸彦 .

日本专利 :CN113615322B ,2024-08-02

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

镰田英纪 ;

池田太郎 ;

古屋治彦 .

日本专利 :CN114107950B ,2024-11-15

[10]

等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P].

石川拓 ;

户部康弘 .

中国专利 :CN101622698B ,2010-01-06

← 1 2 3 4 5 →