化学机械研磨后洗涤液组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03131434.1

申请日：

2003-05-16

公开(公告)号：

CN100429299C

公开(公告)日：

2003-11-26

发明(设计)人：

阿部优美子大和田拓央石川典夫青木秀充富盛浩昭

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C11D320

IPC分类号：

C11D1100 C11D726 H01L21321

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

陈建全

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

半导体基板洗涤液组合物 [P].

村上丰 ;

石川典夫 .

中国专利 :CN101580774A ,2009-11-18

[2]

用于化学机械研磨后清洗的组合物 [P].

张斗瑛 ;

金炳郁 ;

赵泰杓 ;

尹锡壹 ;

许舜范 ;

韩莹圭 .

中国专利 :CN104629946A ,2015-05-20

[3]

半导体基板洗涤液组合物 [P].

阿部优美子 ;

石川典夫 .

中国专利 :CN1542110A ,2004-11-03

[4]

化学机械研磨用组合物以及化学机械研磨方法 [P].

山田裕也 ;

王鹏宇 ;

杉江纪彦 ;

亀井康孝 .

日本专利 :CN114667593B ,2025-08-12

[5]

化学机械研磨用组合物以及化学机械研磨方法 [P].

山田裕也 ;

王鹏宇 ;

杉江纪彦 ;

亀井康孝 .

中国专利 :CN114630880A ,2022-06-14

[6]

化学机械研磨用组合物以及化学机械研磨方法 [P].

山田裕也 ;

王鹏宇 ;

杉江纪彦 ;

亀井康孝 .

中国专利 :CN114667593A ,2022-06-24

[7]

化学机械研磨后清洗组合物、化学机械研磨后清洗处理方法和半导体基板的制造方法 [P].

伊藤孝浩 ;

大岛菜津子 ;

吉野努 .

日本专利 :CN119709334A ,2025-03-28

[8]

洗涤液 [P].

石川典夫 ;

森清人 ;

青木秀充 .

中国专利 :CN1203163C ,1999-03-17

[9]

半导体用洗涤液及使用该洗涤液的洗涤方法 [P].

佐佐卓 ;

志垣修平 .

中国专利 :CN104412370B ,2015-03-11

[10]

用于化学机械研磨的浆料组合物 [P].

朴惠贞 ;

李敏键 ;

朴昌墉 ;

朴民成 ;

陈成勋 ;

李玖和 ;

朴钟大 ;

金宰贤 .

中国专利 :CN110536940A ,2019-12-03

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-12-29	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C11D 3/20 变更事项:专利权人变更前:瑞萨电子株式会社变更后:瑞萨电子株式会社变更事项:地址变更前:日本神奈川县变更后:日本东京都
2010-09-15	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101007587657 IPC(主分类):C11D 3/20 专利号:ZL031314341 变更事项:专利权人变更前:关东化学株式会社变更后:关东化学株式会社变更事项:地址变更前:日本东京变更后:日本东京变更事项:共同专利权人变更前:恩益禧电子股份有限公司变更后:瑞萨电子株式会社
2003-11-26	公开	公开
2020-05-01	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C11D 3/20 申请日:20030516 授权公告日:20081029 终止日期:20190516
2008-10-29	授权	授权
2015-05-06	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101714631933 IPC(主分类):C11D 3/20 专利号:ZL031314341 变更事项:专利权人变更前权利人:关东化学株式会社变更后权利人:瑞萨电子株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本东京变更后权利人:日本神奈川县变更事项:专利权人变更前权利人:瑞萨电子株式会社变更后权利人:无登记生效日:20150415
2005-06-29	实质审查的生效	实质审查的生效