一种等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201020636345.3

申请日：

2010-12-01

公开(公告)号：

CN201904966U

公开(公告)日：

2011-07-20

发明(设计)人：

王俊黄智林蔡珑元解延风

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区金桥出口加工区南区泰华路188号

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

H01L3118

代理机构：

上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249

代理人：

张静洁;徐雯琼

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-04-05	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H05H 1/46 变更事项:专利权人变更前:中微半导体设备（上海）有限公司变更后:中微半导体设备（上海）股份有限公司变更事项:地址变更前:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区南区泰华路188号变更后:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号
2020-12-18	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):H05H 1/46 申请日:20101201 授权公告日:20110720
2011-07-20	授权	授权

共 50 条

[1]

一种等离子体处理装置及其处理方法 [P].

倪图强 .

中国专利 :CN101789362A ,2010-07-28

[2]

等离子体处理装置 [P].

倪图强 .

中国专利 :CN201465987U ,2010-05-12

[3]

一种等离子体处理装置 [P].

凯文·佩尔斯 .

中国专利 :CN202406373U ,2012-08-29

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

南象基 ;

林成龙 ;

刘钒镇 ;

宣钟宇 ;

韩奎熙 ;

许桄熀 ;

韩济愚 .

中国专利 :CN109559967A ,2019-04-02

[5]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

叶如彬 ;

梁洁 ;

浦远 .

中国专利 :CN104733278A ,2015-06-24

[6]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

安田健太 ;

久保田徹 ;

近藤崇 ;

石田胜广 .

中国专利 :CN106104768B ,2016-11-09

[7]

等离子体处理装置 [P].

李金娟 .

中国专利 :CN213093171U ,2021-04-30

[8]

等离子体处理装置 [P].

松村浩 .

中国专利 :CN1226740A ,1999-08-25

[9]

等离子体处理装置 [P].

孙亨圭 .

中国专利 :CN102646569B ,2012-08-22

[10]

等离子体处理装置 [P].

梁洁 ;

叶如彬 .

中国专利 :CN104217914B ,2014-12-17

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