异物检查基板、基板处理装置以及基板处理方法

被引：0

申请号：

CN202180041508.4

申请日：

2021-06-07

公开(公告)号：

CN115702338A

公开(公告)日：

2023-02-14

发明(设计)人：

小杉仁

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G01N2185

IPC分类号：

B05C1100 B05C1108 B05C1110 B05C500 H01L21304

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-02-14	公开	公开

共 50 条

[1]

异物检查基板、基板处理装置以及基板处理方法 [P].

小杉仁 .

日本专利 :CN115702338B ,2024-08-06

[2]

基板检查装置、基板处理装置、基板检查方法以及基板处理方法 [P].

柏山真人 ;

C·佩丘莱斯基 ;

森田彰彦 ;

松尾友宏 .

中国专利 :CN109564853A ,2019-04-02

[3]

基板处理方法、基板处理液以及基板处理装置 [P].

佐佐木悠太 ;

塙洋祐 .

中国专利 :CN109560014A ,2019-04-02

[4]

基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置 [P].

田中友耶 ;

尾辻正幸 ;

田中孝佳 .

日本专利 :CN116656166B ,2025-11-04

[5]

基板处理装置以及基板处理装置的构件检查方法 [P].

桥诘彰夫 .

日本专利 :CN110870045B ,2024-03-12

[6]

基板处理装置以及基板处理装置的构件检查方法 [P].

桥诘彰夫 .

中国专利 :CN110870045A ,2020-03-06

[7]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

佐佐木悠太 ;

塙洋祐 ;

滩原壮一 ;

上田大 ;

北川广明 ;

奥村勝弥 .

中国专利 :CN107481954A ,2017-12-15

[8]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

宫川纱希 ;

佐藤雅伸 ;

堀口博司 .

日本专利 :CN117941035A ,2024-04-26

[9]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

泉昭 ;

佐野谦一 .

中国专利 :CN1794430A ,2006-06-28

[10]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

合田和树 ;

岩田敬次 ;

松永恭幸 ;

高桥朋宏 .

中国专利 :CN114068358A ,2022-02-18

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