抛光垫

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200820133824.6

申请日：

2008-09-27

公开(公告)号：

CN201300373Y

公开(公告)日：

2009-09-02

发明(设计)人：

邱汉郎陈少禹郑裕隆

申请人：

申请人地址：

中国台湾桃园县

IPC主分类号：

B24D1314

IPC分类号：

B24B2902 H01L21304

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

梁爱荣

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-09-02	授权	授权
2018-10-26	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):B24D 13/14 申请日:20080927 授权公告日:20090902

共 50 条

[1]

邱汉郎 ;

陈少禹 ;

郑裕隆 .

中国专利 :CN201287300Y ,2009-08-12

[2]

汪福安 ;

邓仙林 .

中国专利 :CN217453553U ,2022-09-20

[3]

王儒文 ;

李庆春 ;

叶律谷 ;

刘胜华 .

中国专利 :CN203665339U ,2014-06-25

[4]

何昆哲 ;

刘福成 ;

华千慧 .

中国专利 :CN216504231U ,2022-05-13

[5]

抛光垫及其抛光装置 [P].

冯光建 ;

夏秋良 .

中国专利 :CN207788624U ,2018-08-31

[6]

化学机械抛光抛光垫修整装置 [P].

钟旻 .

中国专利 :CN203542368U ,2014-04-16

[7]

抛光垫及多层抛光垫 [P].

川桥信夫 ;

长谷川亨 ;

志保浩司 ;

河村知男 ;

河原弘二 ;

保坂幸生 .

中国专利 :CN1494983A ,2004-05-12

[8]

抛光垫、抛光设备的抛光盘和抛光设备 [P].

李清 ;

王昌飞 .

中国专利 :CN222327795U ,2025-01-10

[9]

一种抛光垫及晶圆抛光系统 [P].

张佳林 ;

朱政挺 .

中国专利 :CN222589300U ,2025-03-11

[10]

砂山梓纱 ;

加藤充 ;

竹越穣 .

日本专利 :CN117794687A ,2024-03-29

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