低共熔溶剂的前体、低共熔溶剂及其制备方法和应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110884454.X

申请日：

2021-08-03

公开(公告)号：

CN113736583B

公开(公告)日：

2021-12-03

发明(设计)人：

梁志森陈玉珍陈景周李樑霍霈霖黄少漫朱家俊麦梓宁刘木兴杨东成姚智文李倩盈周子豪彭颖琳李琼林毅韵黄伟乾杜伟锋

申请人：

申请人地址：

511447 广东省广州市番禺区石楼镇潮田工业区珠江路1-2号

IPC主分类号：

C11D750

IPC分类号：

C11D726 C11D732 C11D716 C11D760 A23L520

代理机构：

华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

王秉丽

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-26	授权	授权
2021-12-03	公开	公开
2021-12-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C11D 7/50 申请日:20210803

共 50 条

[1]

一种低共熔溶剂及其应用和利用低共熔溶剂吸收VOCs的方法 [P].

宋云飞 ;

尹树孟 ;

黄兆贺 ;

单晓雯 ;

宫中昊 ;

于辉 .

中国专利 :CN117883939A ,2024-04-16

[2]

一种低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

黄子瀚 .

中国专利 :CN118554048A ,2024-08-27

[3]

一种低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

王小慧 ;

帅建波 .

中国专利 :CN114105995B ,2022-03-01

[4]

一种低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

任达兵 ;

方梦丹 ;

管梦迪 ;

易伦朝 .

中国专利 :CN118987681A ,2024-11-22

[5]

一种低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

骆焱平 ;

张云飞 ;

秦铭达 ;

王兰英 .

中国专利 :CN119157121A ,2024-12-20

[6]

一种低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

任达兵 ;

方梦丹 ;

管梦迪 ;

易伦朝 .

中国专利 :CN118987681B ,2025-11-04

[7]

一种低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

孙伟振 ;

郑伟中 ;

赵玲 ;

马志宏 .

中国专利 :CN113976177A ,2022-01-28

[8]

可聚合低共熔溶剂 [P].

何明辉 ;

李仁爱 ;

苏彬 ;

崔艳艳 .

中国专利 :CN107417553A ,2017-12-01

[9]

一种磷酸类低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

何喜红 ;

崔雅茹 ;

王薪尧 ;

李倩 ;

李林波 ;

肖海锋 ;

李聪 .

中国专利 :CN112899484A ,2021-06-04

[10]

一种低共熔溶剂及其在制备方法和应用 [P].

赵志钢 ;

谭重庆 ;

胡明 ;

杜津铭 .

中国专利 :CN117778718A ,2024-03-29

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