一种低共熔溶剂及其制备方法和应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411276880.5

申请日：

2024-09-12

公开(公告)号：

CN118987681B

公开(公告)日：

2025-11-04

发明(设计)人：

任达兵方梦丹管梦迪易伦朝

申请人：

昆明理工大学

申请人地址：

650500 云南省昆明市呈贡区景明南路727号

IPC主分类号：

B01D11/02

IPC分类号：

B01J19/12

代理机构：

西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223

代理人：

边境

法律状态：

授权

国省代码：

云南省昆明市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-04	授权	授权
2024-12-10	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B01D 11/02申请日:20240912
2024-11-22	公开	公开

共 50 条

[1]

一种低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

任达兵 ;

方梦丹 ;

管梦迪 ;

易伦朝 .

中国专利 :CN118987681A ,2024-11-22

[2]

一种低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

黄子瀚 .

中国专利 :CN118554048A ,2024-08-27

[3]

低共熔溶剂的前体、低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

梁志森 ;

陈玉珍 ;

陈景周 ;

李樑 ;

霍霈霖 ;

黄少漫 ;

朱家俊 ;

麦梓宁 ;

刘木兴 ;

杨东成 ;

姚智文 ;

李倩盈 ;

周子豪 ;

彭颖琳 ;

李琼 ;

林毅韵 ;

黄伟乾 ;

杜伟锋 .

中国专利 :CN113736583B ,2021-12-03

[4]

一种低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

王小慧 ;

帅建波 .

中国专利 :CN114105995B ,2022-03-01

[5]

一种低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

骆焱平 ;

张云飞 ;

秦铭达 ;

王兰英 .

中国专利 :CN119157121A ,2024-12-20

[6]

一种低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

孙伟振 ;

郑伟中 ;

赵玲 ;

马志宏 .

中国专利 :CN113976177A ,2022-01-28

[7]

一种低共熔溶剂及其在制备方法和应用 [P].

赵志钢 ;

谭重庆 ;

胡明 ;

杜津铭 .

中国专利 :CN117778718A ,2024-03-29

[8]

一种低共熔溶剂及其应用 [P].

满若君 ;

李丽 ;

李童 ;

何雪梅 ;

唐雅园 ;

周主贵 ;

李昌宝 ;

易萍 ;

谢丽红 .

中国专利 :CN120204761A ,2025-06-27

[9]

一种磷酸类低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

何喜红 ;

崔雅茹 ;

王薪尧 ;

李倩 ;

李林波 ;

肖海锋 ;

李聪 .

中国专利 :CN112899484A ,2021-06-04

[10]

一种醇胺基低共熔溶剂及其制备方法和应用 [P].

夏力 ;

周淑君 ;

张越 ;

王丽丽 ;

孙晓岩 ;

项曙光 .

中国专利 :CN120393663A ,2025-08-01

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