砷化镓晶体和砷化镓晶体基板

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110359932.5
申请日
2017-07-04
公开(公告)号
CN113235162B
公开(公告)日
2024-06-04
发明(设计)人
福永宽 秋田胜史 石川幸雄
申请人
住友电气工业株式会社
申请人地址
日本大阪府大阪市
IPC主分类号
C30B29/42
IPC分类号
C30B11/00 H01L29/207
代理机构
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人
王海川;牛嵩林
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
砷化镓晶体和砷化镓晶体基板 [P]. 
福永宽 ;
秋田胜史 ;
石川幸雄 .
中国专利 :CN110325672A ,2019-10-11
[2]
砷化镓晶体和砷化镓晶体基板 [P]. 
福永宽 ;
秋田胜史 ;
石川幸雄 .
中国专利 :CN113235162A ,2021-08-10
[3]
砷化镓晶体和砷化镓晶体基板 [P]. 
福永宽 ;
秋田胜史 ;
石川幸雄 .
中国专利 :CN113215662A ,2021-08-06
[4]
砷化镓晶体基板 [P]. 
森下昌纪 ;
高山英俊 ;
樋口恭明 ;
羽木良明 .
中国专利 :CN111406130B ,2020-07-10
[5]
砷化镓单晶和砷化镓单晶基板 [P]. 
高山英俊 ;
石川幸雄 .
日本专利 :CN111902573B ,2024-03-08
[6]
砷化镓单晶和砷化镓单晶基板 [P]. 
高山英俊 ;
石川幸雄 .
中国专利 :CN111902573A ,2020-11-06
[7]
半绝缘性砷化镓晶体基板 [P]. 
河本真弥 ;
木山诚 ;
石川幸雄 ;
桥尾克司 .
中国专利 :CN111032930A ,2020-04-17
[8]
半绝缘性砷化镓晶体基板 [P]. 
河本真弥 ;
木山诚 ;
石川幸雄 ;
桥尾克司 .
日本专利 :CN111032930B ,2024-01-02
[9]
半绝缘性砷化镓晶体基板 [P]. 
河本真弥 ;
木山诚 ;
石川幸雄 ;
桥尾克司 .
日本专利 :CN113584593B ,2024-01-02
[10]
半绝缘性砷化镓晶体基板 [P]. 
河本真弥 ;
木山诚 ;
石川幸雄 ;
桥尾克司 .
中国专利 :CN113584593A ,2021-11-02