具有接合结构的半导体元件结构及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410082132.7
申请日
2023-07-07
公开(公告)号
CN117995815A
公开(公告)日
2024-05-07
发明(设计)人
黄圣富 施信益
申请人
南亚科技股份有限公司
申请人地址
中国台湾新北市
IPC主分类号
H01L23/532
IPC分类号
H01L23/485 H01L21/768 H01L21/60
代理机构
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
李南山
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
具有气隙的混合接合结构的半导体元件结构及其制备方法 [P]. 
丘世仰 .
中国专利 :CN120376545A ,2025-07-25
[2]
具有气隙的混合接合结构的半导体元件结构及其制备方法 [P]. 
丘世仰 .
中国专利 :CN120376544A ,2025-07-25
[3]
半导体元件结构及其制备方法 [P]. 
黄圣富 ;
施信益 .
中国专利 :CN117995814A ,2024-05-07
[4]
半导体元件的接合方法及接合结构 [P]. 
水野英范 ;
牧田纪久夫 .
中国专利 :CN103890976B ,2014-06-25
[5]
具有缓冲结构的半导体元件及其制备方法 [P]. 
黄则尧 .
中国专利 :CN117577611A ,2024-02-20
[6]
具有栅极结构的半导体元件及其制备方法 [P]. 
郝中蓬 .
中国专利 :CN117677190A ,2024-03-08
[7]
具有缓冲结构的半导体元件及其制备方法 [P]. 
黄则尧 .
中国专利 :CN117525015A ,2024-02-06
[8]
具有连接结构的半导体元件及其制备方法 [P]. 
施信益 .
中国专利 :CN113284877A ,2021-08-20
[9]
具有选择结构的半导体元件及其制备方法 [P]. 
丘世仰 .
中国专利 :CN119153438A ,2024-12-17
[10]
具有连接结构的半导体元件及其制备方法 [P]. 
施信益 .
中国专利 :CN113284877B ,2024-03-29