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集成结势垒肖特基二极管的沟槽型MOSFET器件及制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202310502237.9
申请日
:
2023-05-06
公开(公告)号
:
CN116598359B
公开(公告)日
:
2024-04-19
发明(设计)人
:
于霄恬
申请人
:
海科(嘉兴)电力科技有限公司
申请人地址
:
314006 浙江省嘉兴市南湖区大桥镇凌公塘路3339号(嘉兴科技城)8号楼201-12
IPC主分类号
:
H01L29/78
IPC分类号
:
H01L29/06
H01L21/336
代理机构
:
杭州裕阳联合专利代理有限公司 33289
代理人
:
田金霞
法律状态
:
授权
国省代码
:
浙江省 嘉兴市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-04-19
授权
授权
共 50 条
[1]
集成结势垒肖特基二极管的平面型功率MOSFET器件
[P].
于霄恬
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于霄恬
.
中国专利
:CN217847964U
,2022-11-18
[2]
集成结势垒肖特基二极管的平面型功率MOSFET器件
[P].
于霄恬
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于霄恬
.
中国专利
:CN217306514U
,2022-08-26
[3]
高压沟槽结势垒肖特基二极管
[P].
N.屈
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N.屈
;
A.格拉赫
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A.格拉赫
.
中国专利
:CN103959479A
,2014-07-30
[4]
结势垒肖特基二极管
[P].
金锐
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
金锐
;
李翠
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
李翠
;
葛念念
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
葛念念
;
郝夏敏
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
郝夏敏
;
洪欣迪
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
洪欣迪
;
和峰
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
和峰
;
李哲洋
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
李哲洋
;
崔翔
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
崔翔
.
中国专利
:CN120358757A
,2025-07-22
[5]
结势垒肖特基二极管
[P].
金锐
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
金锐
;
李翠
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
李翠
;
葛念念
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
葛念念
;
郝夏敏
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
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;
洪欣迪
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
洪欣迪
;
和峰
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
和峰
;
李哲洋
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
李哲洋
;
崔翔
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
崔翔
.
中国专利
:CN120358757B
,2025-08-29
[6]
结势垒肖特基二极管
[P].
有马润
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TDK株式会社
TDK株式会社
有马润
;
藤田实
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TDK株式会社
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藤田实
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川崎克己
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TDK株式会社
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平林润
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TDK株式会社
TDK株式会社
平林润
.
日本专利
:CN118872078A
,2024-10-29
[7]
结势垒肖特基二极管
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有马润
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TDK株式会社
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TDK株式会社
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藤田实
;
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;
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TDK株式会社
TDK株式会社
平林润
.
日本专利
:CN120826994A
,2025-10-21
[8]
结势垒肖特基二极管
[P].
有马润
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TDK株式会社
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藤田实
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川崎克己
;
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TDK株式会社
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平林润
.
日本专利
:CN118318310A
,2024-07-09
[9]
结势垒肖特基二极管
[P].
M·D·邱吉
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M·D·邱吉
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A·宼尼斯基
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A·宼尼斯基
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L·G·皮尔斯
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M·R·杰恩
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,2010-03-24
[10]
结势垒肖特基二极管
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有马润
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TDK株式会社
TDK株式会社
有马润
;
藤田实
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TDK株式会社
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藤田实
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川崎克己
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TDK株式会社
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TDK株式会社
平林润
.
日本专利
:CN118872077A
,2024-10-29
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