液滴分析单元及包括其的基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310900932.0

申请日：

2023-07-21

公开(公告)号：

CN117465142A

公开(公告)日：

2024-01-30

发明(设计)人：

陈元镛张硕元

申请人：

细美事有限公司

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

B41J3/407

IPC分类号：

G02F1/1335 B41J2/01 B41J2/045

代理机构：

北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204

代理人：

刘旭;王艳春

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-22	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B41J 3/407申请日:20230721
2024-01-30	公开	公开

共 50 条

[1]

液滴分析单元及包括该液滴分析单元的基板处理装置 [P].

陈元镛 ;

李载德 ;

张硕元 .

韩国专利 :CN117476499A ,2024-01-30

[2]

喷墨头单元及包括其的基板处理装置 [P].

于蔷薇 ;

梁真赫 ;

赵庸揆 ;

赵天洙 ;

崔基训 .

韩国专利 :CN117656675A ,2024-03-08

[3]

控制单元及包括其的基板处理装置 [P].

宋延徹 ;

林名俊 ;

金光燮 ;

李锺民 ;

吴埈昊 ;

柳志勳 ;

朴永镐 .

韩国专利 :CN115891432B ,2025-11-11

[4]

基板处理液供给单元以及具备其的基板处理装置 [P].

李东和 ;

尹大建 ;

李寿洪 ;

金知贤 ;

金大星 .

中国专利 :CN115674909A ,2023-02-03

[5]

基板处理液供给单元以及具备其的基板处理装置 [P].

李东和 ;

尹大建 ;

李寿洪 ;

金知贤 ;

金大星 .

韩国专利 :CN115674909B ,2025-10-10

[6]

控制单元及包括其的基板处理装置 [P].

权铉九 .

韩国专利 :CN118219682A ,2024-06-21

[7]

喷嘴单元及包括其的基板处理装置 [P].

尹勤植 .

中国专利 :CN206661766U ,2017-11-24

[8]

处理液提供单元及具有其的基板处理装置 [P].

李建旼 ;

河道炅 ;

崔文淳 ;

林采永 ;

刘在赫 .

中国专利 :CN115116888A ,2022-09-27

[9]

加热单元、包括其的基板处理装置及基板处理设备 [P].

徐钟锡 .

韩国专利 :CN117747471A ,2024-03-22

[10]

基板传送单元及包括该其的基板处理装置 [P].

洪南基 ;

李殷珠 ;

金基勳 .

韩国专利 :CN118016577A ,2024-05-10

← 1 2 3 4 5 →