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液滴分析单元及包括该液滴分析单元的基板处理装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202310900439.9
申请日
:
2023-07-21
公开(公告)号
:
CN117476499A
公开(公告)日
:
2024-01-30
发明(设计)人
:
陈元镛
李载德
张硕元
申请人
:
细美事有限公司
申请人地址
:
韩国忠清南道
IPC主分类号
:
H01L21/67
IPC分类号
:
代理机构
:
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204
代理人
:
刘旭;王艳春
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-01-30
公开
公开
2025-04-22
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20230721
共 50 条
[1]
液滴分析单元及包括其的基板处理装置
[P].
陈元镛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
陈元镛
;
张硕元
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
张硕元
.
韩国专利
:CN117465142A
,2024-01-30
[2]
基板处理液回收单元及具有该单元的基板处理装置
[P].
崔叡珍
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
崔叡珍
;
方炳善
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
方炳善
;
姜兑昊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
姜兑昊
;
文钟元
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
文钟元
.
中国专利
:CN114558821A
,2022-05-31
[3]
液滴喷射单元和液滴喷射设备
[P].
中岛吉纪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
中岛吉纪
;
田中利之
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
田中利之
;
的场宏次
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
的场宏次
.
中国专利
:CN101326061B
,2010-06-16
[4]
液滴处理装置及液滴处理方法
[P].
朴商贤
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
朴商贤
.
韩国专利
:CN118342900A
,2024-07-16
[5]
支撑单元及包括该单元的基板处理装置
[P].
李元行
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李元行
.
中国专利
:CN104078387A
,2014-10-01
[6]
清洁单元和包括该清洁单元的基板处理装置
[P].
李丙敃
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
李丙敃
;
张硕元
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
张硕元
.
韩国专利
:CN118538631A
,2024-08-23
[7]
容纳单元及包括该容纳单元的基板处理装置
[P].
李硕徽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李硕徽
.
中国专利
:CN104979240A
,2015-10-14
[8]
传送单元及包括该传送单元的基板处理装置
[P].
金炯俊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
金炯俊
.
中国专利
:CN110504202A
,2019-11-26
[9]
液滴处理装置
[P].
郑用得
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
郑用得
.
韩国专利
:CN118254485A
,2024-06-28
[10]
维护单元及具有该维护单元的基板处理装置
[P].
朴兑晛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
朴兑晛
.
中国专利
:CN114649236A
,2022-06-21
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