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改善清洗性能的超音波清洗单元及包括其的基板清洗设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202310972031.2
申请日：
2023-08-03
公开(公告)号：
CN117619816A
公开(公告)日：
2024-03-01
发明(设计)人：
李泽烨
申请人：
得八益十意恩至有限公司
申请人地址：
韩国忠清南道
IPC主分类号：
B08B3/12
IPC分类号：
H01L21/67
B08B13/00
代理机构：
北京鸿元知识产权代理有限公司 11327
代理人：
李琳;陈英俊
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-03-01 | 公开 | 公开 |
| 2025-07-15 | 著录事项变更 | 著录事项变更IPC(主分类):B08B 3/12变更事项:申请人变更前:得八益十意恩至有限公司变更后:迪佰世有限公司变更事项:国家或地区变更前:韩国变更后:韩国变更事项:地址变更前:韩国忠清南道变更后:韩国忠清南道 |
| 2025-12-02 | 授权 | 授权 |
| 2024-03-19 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):B08B 3/12申请日:20230803 |