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晶圆的处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311275245.0
申请日
:
2023-09-28
公开(公告)号
:
CN117538719A
公开(公告)日
:
2024-02-09
发明(设计)人
:
杨雪莹
申请人
:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请人地址
:
710000 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室
IPC主分类号
:
G01R31/265
IPC分类号
:
G01R31/26
代理机构
:
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
:
李红标
法律状态
:
公开
国省代码
:
江苏省 常州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-02-09
公开
公开
2024-03-01
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G01R 31/265申请日:20230928
共 50 条
[1]
处理晶圆的方法
[P].
范振隆
论文数:
0
引用数:
0
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0
范振隆
.
中国专利
:CN101230463A
,2008-07-30
[2]
晶圆的处理方法
[P].
林平波
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东莞新科技术研究开发有限公司
东莞新科技术研究开发有限公司
林平波
.
中国专利
:CN119517848A
,2025-02-25
[3]
玻璃晶圆处理方法、玻璃晶圆及玻璃晶圆的检测方法
[P].
刘玮荪
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘玮荪
.
中国专利
:CN103413754A
,2013-11-27
[4]
用于处理硅晶圆的方法
[P].
H.厄夫纳
论文数:
0
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0
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0
H.厄夫纳
;
H-J.舒尔策
论文数:
0
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0
H-J.舒尔策
;
W.舒斯泰雷德
论文数:
0
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0
W.舒斯泰雷德
;
S.瓦利亚
论文数:
0
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0
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0
S.瓦利亚
.
中国专利
:CN107039253B
,2017-08-11
[5]
硅晶圆的热处理方法
[P].
前田进
论文数:
0
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0
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前田进
;
番场博则
论文数:
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0
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番场博则
;
须藤治生
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须藤治生
;
冈村秀幸
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冈村秀幸
;
荒木浩司
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荒木浩司
;
末冈浩治
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末冈浩治
;
中村浩三
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0
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中村浩三
.
中国专利
:CN109196625A
,2019-01-11
[6]
硅晶圆的热处理方法
[P].
曲伟峰
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0
曲伟峰
;
田原史夫
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0
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0
田原史夫
.
中国专利
:CN105324834A
,2016-02-10
[7]
硅晶圆的研磨方法
[P].
田中佑宜
论文数:
0
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0
田中佑宜
;
上滨直纪
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0
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0
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0
上滨直纪
.
中国专利
:CN110546740A
,2019-12-06
[8]
晶圆处理装置及方法
[P].
胡俊
论文数:
0
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胡俊
;
王建东
论文数:
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0
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王建东
.
中国专利
:CN113871325A
,2021-12-31
[9]
硅晶圆的清洗方法、硅晶圆的制造方法及硅晶圆
[P].
福岛和哉
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
胜高股份有限公司
胜高股份有限公司
福岛和哉
;
柳井凉一
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机构:
胜高股份有限公司
胜高股份有限公司
柳井凉一
;
高桥亮辅
论文数:
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0
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机构:
胜高股份有限公司
胜高股份有限公司
高桥亮辅
.
日本专利
:CN120202531A
,2025-06-24
[10]
硅晶圆的研磨方法、硅晶圆的制造方法和硅晶圆
[P].
西村雅史
论文数:
0
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0
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0
西村雅史
;
田中宏知
论文数:
0
引用数:
0
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0
田中宏知
.
中国专利
:CN110140195B
,2019-08-16
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