晶圆的处理方法

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专利类型
发明
申请号
CN202311275245.0
申请日
2023-09-28
公开(公告)号
CN117538719A
公开(公告)日
2024-02-09
发明(设计)人
杨雪莹
申请人
西安奕斯伟材料科技股份有限公司 西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请人地址
710000 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室
IPC主分类号
G01R31/265
IPC分类号
G01R31/26
代理机构
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
李红标
法律状态
公开
国省代码
江苏省 常州市
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共 50 条
[1]
处理晶圆的方法 [P]. 
范振隆 .
中国专利 :CN101230463A ,2008-07-30
[2]
晶圆的处理方法 [P]. 
林平波 .
中国专利 :CN119517848A ,2025-02-25
[3]
玻璃晶圆处理方法、玻璃晶圆及玻璃晶圆的检测方法 [P]. 
刘玮荪 .
中国专利 :CN103413754A ,2013-11-27
[4]
用于处理硅晶圆的方法 [P]. 
H.厄夫纳 ;
H-J.舒尔策 ;
W.舒斯泰雷德 ;
S.瓦利亚 .
中国专利 :CN107039253B ,2017-08-11
[5]
硅晶圆的热处理方法 [P]. 
前田进 ;
番场博则 ;
须藤治生 ;
冈村秀幸 ;
荒木浩司 ;
末冈浩治 ;
中村浩三 .
中国专利 :CN109196625A ,2019-01-11
[6]
硅晶圆的热处理方法 [P]. 
曲伟峰 ;
田原史夫 .
中国专利 :CN105324834A ,2016-02-10
[7]
硅晶圆的研磨方法 [P]. 
田中佑宜 ;
上滨直纪 .
中国专利 :CN110546740A ,2019-12-06
[8]
晶圆处理装置及方法 [P]. 
胡俊 ;
王建东 .
中国专利 :CN113871325A ,2021-12-31
[9]
硅晶圆的清洗方法、硅晶圆的制造方法及硅晶圆 [P]. 
福岛和哉 ;
柳井凉一 ;
高桥亮辅 .
日本专利 :CN120202531A ,2025-06-24
[10]
硅晶圆的研磨方法、硅晶圆的制造方法和硅晶圆 [P]. 
西村雅史 ;
田中宏知 .
中国专利 :CN110140195B ,2019-08-16