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电解质浓度测量装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201980046965.5
申请日
:
2019-09-02
公开(公告)号
:
CN112654862B
公开(公告)日
:
2024-03-22
发明(设计)人
:
岸冈淳史
小野哲义
申请人
:
株式会社日立高新技术
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G01N27/26
IPC分类号
:
G01N27/333
G01N27/416
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
吴克鹏
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-03-22
授权
授权
共 50 条
[1]
电解质浓度测量装置
[P].
岸冈淳史
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岸冈淳史
;
小野哲义
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小野哲义
.
中国专利
:CN112654862A
,2021-04-13
[2]
电解质浓度测定装置、电解质浓度测定方法
[P].
岸冈淳史
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岸冈淳史
;
小野哲义
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小野哲义
.
中国专利
:CN112666234A
,2021-04-16
[3]
电解质浓度测定装置、电解质浓度测定方法
[P].
岸冈淳史
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
岸冈淳史
;
小野哲义
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
小野哲义
.
日本专利
:CN112666234B
,2024-04-19
[4]
电解质浓度测定装置
[P].
岸冈淳史
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岸冈淳史
;
小野哲义
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小野哲义
.
中国专利
:CN109416338A
,2019-03-01
[5]
电解质浓度测定装置
[P].
岸冈淳史
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岸冈淳史
;
三宅雅文
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三宅雅文
.
中国专利
:CN115087864A
,2022-09-20
[6]
电解质浓度测定装置
[P].
岸冈淳史
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
岸冈淳史
;
三宅雅文
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
三宅雅文
.
日本专利
:CN115087864B
,2024-07-05
[7]
电解质浓度测量方法
[P].
山本毅
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
山本毅
;
宫崎启司
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
宫崎启司
;
三浦淳
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
三浦淳
;
槚户风花
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
槚户风花
;
前田晴信
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
前田晴信
;
田中正典
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
田中正典
;
深津慎
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
深津慎
.
日本专利
:CN120981717A
,2025-11-18
[8]
微分析芯片、电解质浓度测量系统和电解质浓度测量方法
[P].
井上靖数
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
井上靖数
;
深津慎
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
深津慎
;
三浦淳
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
三浦淳
;
田中正典
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
田中正典
;
前田晴信
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
前田晴信
;
榎户风花
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佳能株式会社
佳能株式会社
榎户风花
;
松川显久
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
松川显久
;
阿部克市
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
阿部克市
;
宫崎启司
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佳能株式会社
佳能株式会社
宫崎启司
;
山本毅
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
山本毅
.
日本专利
:CN118339448A
,2024-07-12
[9]
电解质分析装置
[P].
岸冈淳史
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
岸冈淳史
;
松下祐福
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
松下祐福
;
三宅雅文
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
三宅雅文
.
日本专利
:CN118749066A
,2024-10-08
[10]
电解质测定装置
[P].
小泽理
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小泽理
.
中国专利
:CN112639455A
,2021-04-09
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