转印膜清理设备、激光转印裝置及转印膜清理方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410177630.X
申请日
2024-02-08
公开(公告)号
CN117984653A
公开(公告)日
2024-05-07
发明(设计)人
雍文炯 韩玉浩
申请人
天合光能股份有限公司
申请人地址
213031 江苏省常州市新北区天合光伏产业园天合路2号
IPC主分类号
B41F16/00
IPC分类号
B41F35/00
代理机构
华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人
马簪
法律状态
实质审查的生效
国省代码
江苏省 常州市
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共 50 条
[1]
转印膜、转印设备及其转印方法 [P]. 
刘福助 .
中国专利 :CN104002579A ,2014-08-27
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激光转印膜 [P]. 
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白明基 ;
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激光转印膜 [P]. 
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朴埈佑 ;
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转印膜及转印膜的制造方法 [P]. 
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转印膜 [P]. 
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水压转印方法、水压转印用转印膜、转印膜用墨以及水压转印品 [P]. 
池田亘 ;
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高田进 ;
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王龙 .
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