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转印膜清理设备、激光转印裝置及转印膜清理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410177630.X
申请日
:
2024-02-08
公开(公告)号
:
CN117984653A
公开(公告)日
:
2024-05-07
发明(设计)人
:
雍文炯
韩玉浩
申请人
:
天合光能股份有限公司
申请人地址
:
213031 江苏省常州市新北区天合光伏产业园天合路2号
IPC主分类号
:
B41F16/00
IPC分类号
:
B41F35/00
代理机构
:
华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人
:
马簪
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
江苏省 常州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-05-24
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):B41F 16/00申请日:20240208
2024-05-07
公开
公开
共 50 条
[1]
转印膜、转印设备及其转印方法
[P].
刘福助
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘福助
.
中国专利
:CN104002579A
,2014-08-27
[2]
激光转印膜
[P].
李广会
论文数:
0
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0
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0
机构:
东丽尖端素材株式会社
东丽尖端素材株式会社
李广会
;
白明基
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0
机构:
东丽尖端素材株式会社
东丽尖端素材株式会社
白明基
;
宋政翰
论文数:
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引用数:
0
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0
机构:
东丽尖端素材株式会社
东丽尖端素材株式会社
宋政翰
.
韩国专利
:CN119255918A
,2025-01-03
[3]
激光转印膜
[P].
李广会
论文数:
0
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0
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0
李广会
;
李惠利
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李惠利
;
朴埈佑
论文数:
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朴埈佑
;
严相烈
论文数:
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引用数:
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严相烈
.
中国专利
:CN112009128B
,2020-12-01
[4]
转印膜及转印膜的制造方法
[P].
林威宇
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0
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0
林威宇
;
魏百盛
论文数:
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0
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0
魏百盛
.
中国专利
:CN102114737A
,2011-07-06
[5]
转印膜
[P].
鞠进元
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0
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鞠进元
.
中国专利
:CN108407485A
,2018-08-17
[6]
水压转印方法、水压转印用转印膜、转印膜用墨以及水压转印品
[P].
池田亘
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池田亘
;
富来秋子
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富来秋子
.
中国专利
:CN103298622A
,2013-09-11
[7]
转印膜
[P].
仓世古绘美
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仓世古绘美
;
高田进
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高田进
;
铃木基之
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铃木基之
.
中国专利
:CN103370193A
,2013-10-23
[8]
转印膜
[P].
王龙
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0
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0
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王龙
.
中国专利
:CN105694394A
,2016-06-22
[9]
转印膜
[P].
刘锦彩
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刘锦彩
.
中国专利
:CN201979827U
,2011-09-21
[10]
转印膜
[P].
洪健翎
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洪健翎
.
中国专利
:CN202428858U
,2012-09-12
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