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激光转印膜
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010461517.6
申请日
:
2020-05-27
公开(公告)号
:
CN112009128B
公开(公告)日
:
2020-12-01
发明(设计)人
:
李广会
李惠利
朴埈佑
严相烈
申请人
:
申请人地址
:
韩国庆尚北道
IPC主分类号
:
B41M526
IPC分类号
:
B41M546
B41M544
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
:
金玲;崔成哲
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-12-01
公开
公开
2022-08-19
授权
授权
2020-12-18
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):B41M 5/26 申请日:20200527
共 50 条
[1]
激光转印膜
[P].
李广会
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东丽尖端素材株式会社
东丽尖端素材株式会社
李广会
;
白明基
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东丽尖端素材株式会社
东丽尖端素材株式会社
白明基
;
宋政翰
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东丽尖端素材株式会社
东丽尖端素材株式会社
宋政翰
.
韩国专利
:CN119255918A
,2025-01-03
[2]
转印膜
[P].
刘锦彩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘锦彩
.
中国专利
:CN201979827U
,2011-09-21
[3]
双面激光转印膜、开槽模具以及激光转印系统
[P].
施方旭
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
天合光能股份有限公司
天合光能股份有限公司
施方旭
.
中国专利
:CN222431921U
,2025-02-07
[4]
转印膜清理设备、激光转印裝置及转印膜清理方法
[P].
雍文炯
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
天合光能股份有限公司
天合光能股份有限公司
雍文炯
;
韩玉浩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
天合光能股份有限公司
天合光能股份有限公司
韩玉浩
.
中国专利
:CN117984653A
,2024-05-07
[5]
一种激光转印膜制备方法及转印膜
[P].
何瑞
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
天合光能股份有限公司
天合光能股份有限公司
何瑞
;
殷志豪
论文数:
0
引用数:
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0
机构:
天合光能股份有限公司
天合光能股份有限公司
殷志豪
;
韩玉浩
论文数:
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0
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0
机构:
天合光能股份有限公司
天合光能股份有限公司
韩玉浩
;
杨广涛
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
天合光能股份有限公司
天合光能股份有限公司
杨广涛
.
中国专利
:CN119388896A
,2025-02-07
[6]
转印膜
[P].
鞠进元
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
鞠进元
.
中国专利
:CN108407485A
,2018-08-17
[7]
转印膜
[P].
仓世古绘美
论文数:
0
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0
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0
仓世古绘美
;
高田进
论文数:
0
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0
高田进
;
铃木基之
论文数:
0
引用数:
0
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0
铃木基之
.
中国专利
:CN103370193A
,2013-10-23
[8]
转印膜
[P].
王龙
论文数:
0
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0
h-index:
0
王龙
.
中国专利
:CN105694394A
,2016-06-22
[9]
转印膜
[P].
洪健翎
论文数:
0
引用数:
0
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0
洪健翎
.
中国专利
:CN202428858U
,2012-09-12
[10]
转印膜
[P].
高桥英一
论文数:
0
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0
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0
高桥英一
;
古贺信博
论文数:
0
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0
古贺信博
;
今泉保幸
论文数:
0
引用数:
0
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今泉保幸
.
中国专利
:CN1968827B
,2007-05-23
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