一种激光转印膜制备方法及转印膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411741234.1

申请日：

2024-11-29

公开(公告)号：

CN119388896A

公开(公告)日：

2025-02-07

发明(设计)人：

何瑞殷志豪韩玉浩杨广涛

申请人：

天合光能股份有限公司

申请人地址：

213022 江苏省常州市新北区天合光伏产业园天合路2号

IPC主分类号：

B41M3/00

IPC分类号：

H10F71/00 H10F77/20 B41M5/025

代理机构：

上海和华启核知识产权代理有限公司 31339

代理人：

王仙子

法律状态：

公开

国省代码：

江苏省常州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-07	公开	公开
2025-02-25	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B41M 3/00申请日:20241129

共 50 条

[1]

激光转印膜 [P].

李广会 ;

白明基 ;

宋政翰 .

韩国专利 :CN119255918A ,2025-01-03

[2]

激光转印膜 [P].

李广会 ;

李惠利 ;

朴埈佑 ;

严相烈 .

中国专利 :CN112009128B ,2020-12-01

[3]

转印膜清理设备、激光转印裝置及转印膜清理方法 [P].

雍文炯 ;

韩玉浩 .

中国专利 :CN117984653A ,2024-05-07

[4]

转印膜及转印膜的制造方法 [P].

林威宇 ;

魏百盛 .

中国专利 :CN102114737A ,2011-07-06

[5]

鞠进元 .

中国专利 :CN108407485A ,2018-08-17

[6]

仓世古绘美 ;

高田进 ;

铃木基之 .

中国专利 :CN103370193A ,2013-10-23

[7]

王龙 .

中国专利 :CN105694394A ,2016-06-22

[8]

洪健翎 .

中国专利 :CN202428858U ,2012-09-12

[9]

高桥英一 ;

古贺信博 ;

今泉保幸 .

中国专利 :CN1968827B ,2007-05-23

[10]

刘锦彩 .

中国专利 :CN201979827U ,2011-09-21

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