共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
CMP后清洗装置及其使用方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410224494.5
申请日：
2024-02-28
公开(公告)号：
CN118099034A
公开(公告)日：
2024-05-28
发明(设计)人：
朱绍佳
于明非
李虎
张健
申请人：
上海华力集成电路制造有限公司
申请人地址：
201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
H01L21/687
H01L21/02
B08B3/02
代理机构：
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人：
刘昌荣
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
上海市
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-06-14 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20240228 |
| 2024-05-28 | 公开 | 公开 |