CMP后清洗设备清洗刷惰轴结构及使用方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201611207243.8

申请日：

2016-12-23

公开(公告)号：

CN106583297A

公开(公告)日：

2017-04-26

发明(设计)人：

陶利权柳滨史霄蒲继祖

申请人：

申请人地址：

100176 北京市大兴区北京经济技术开发区泰河三街1号

IPC主分类号：

B08B104

IPC分类号：

F16C302 F16L2708 F16L27087

代理机构：

北京中建联合知识产权代理事务所(普通合伙) 11004

代理人：

朱婷婷;朱丽岩

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-05-24	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101721564618 IPC(主分类):B08B 1/04 专利申请号:2016112072438 申请日:20161223
2017-04-26	公开	公开
2019-05-17	授权	授权

共 34 条

[1]

CMP后清洗设备清洗刷驱动轴结构及使用方法 [P].

陶利权 ;

费玖海 ;

舒福璋 ;

张继静 .

中国专利 :CN106670149A ,2017-05-17

[2]

CMP后清洗设备晶片惰轮结构及使用方法 [P].

陶利权 ;

柳滨 ;

熊朋 ;

史霄 .

中国专利 :CN106683978B ,2017-05-17

[3]

CMP后清洗设备清洗刷同心卡接结构及使用方法 [P].

陶利权 ;

蒲继祖 ;

史霄 ;

尹影 ;

李元升 .

中国专利 :CN106583295A ,2017-04-26

[4]

CMP后清洗刷以及制造方法 [P].

拉吉夫·巴贾杰 .

美国专利 :CN118160064A ,2024-06-07

[5]

CMP后清洗设备晶片组合轮结构及使用方法 [P].

陶利权 ;

史霄 ;

费玖海 ;

尹影 ;

李玉敏 .

中国专利 :CN106734025A ,2017-05-31

[6]

CMP后清洗装置及其使用方法 [P].

朱绍佳 ;

于明非 ;

李虎 ;

张健 .

中国专利 :CN118099034A ,2024-05-28

[7]

CMP后清洗过程的干燥装置及方法、CMP后清洗装置及方法 [P].

具滋贤 ;

杨涛 ;

张月 ;

张琦辉 .

中国专利 :CN114628228A ,2022-06-14

[8]

用于铜CMP后清洗磨料颗粒的清洗液及清洗方法 [P].

檀柏梅 ;

杨柳 ;

殷达 ;

何彦刚 ;

王如 ;

孙晓琴 ;

张师浩 .

中国专利 :CN110813891A ,2020-02-21

[9]

一种CMP后清洗方法 [P].

姬颖伦 ;

蔡长益 .

中国专利 :CN111069115A ,2020-04-28

[10]

一种CMP后清洗装置及其清洗方法 [P].

余涛 ;

唐杰 ;

朴灵绪 .

中国专利 :CN110517975B ,2019-11-29

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