一种CMP后清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811229584.4

申请日：

2018-10-22

公开(公告)号：

CN111069115A

公开(公告)日：

2020-04-28

发明(设计)人：

姬颖伦蔡长益

申请人：

申请人地址：

230000 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室

IPC主分类号：

B08B102

IPC分类号：

H01L2102

代理机构：

北京律智知识产权代理有限公司 11438

代理人：

吴娅妮;于宝庆

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-22	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B08B 1/02 申请日:20181022
2022-08-19	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B08B 1/02 申请公布日:20200428
2020-04-28	公开	公开

共 50 条

[1]

一种CMP后清洗装置及其清洗方法 [P].

余涛 ;

唐杰 ;

朴灵绪 .

中国专利 :CN110517975B ,2019-11-29

[2]

钨CMP后的清洗方法 [P].

陈华伦 .

中国专利 :CN1967788A ,2007-05-23

[3]

CMP后清洗过程的干燥装置及方法、CMP后清洗装置及方法 [P].

具滋贤 ;

杨涛 ;

张月 ;

张琦辉 .

中国专利 :CN114628228A ,2022-06-14

[4]

CMP后清洗液组合物 [P].

李锡浩 ;

宋定桓 ;

全成植 ;

赵诚一 ;

韩挪 ;

金炳卓 ;

林娥铉 .

中国专利 :CN106191887B ,2016-12-07

[5]

CMP后清洗刷以及制造方法 [P].

拉吉夫·巴贾杰 .

美国专利 :CN118160064A ,2024-06-07

[6]

一种CMP后清洗生产线 [P].

余涛 ;

唐杰 ;

朴灵绪 ;

张霞 ;

郭巍 .

中国专利 :CN212322958U ,2021-01-08

[7]

一种CMP后清洗生产线及其清洗工艺 [P].

余涛 ;

唐杰 ;

朴灵绪 ;

张霞 ;

郭巍 .

中国专利 :CN111668139A ,2020-09-15

[8]

CMP后清洗装置及其使用方法 [P].

朱绍佳 ;

于明非 ;

李虎 ;

张健 .

中国专利 :CN118099034A ,2024-05-28

[9]

一种晶圆CMP后清洗的搬送方法 [P].

余涛 ;

朴灵绪 ;

郭巍 .

中国专利 :CN112635374A ,2021-04-09

[10]

用于CMP后清洗的配方和方法 [P].

D·C·坦姆伯利 ;

M·B·拉奥 ;

G·巴尼尔杰 ;

K·R·法布里加斯 .

中国专利 :CN101942667B ,2011-01-12

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