CMP后清洗刷以及制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202280071037.6

申请日：

2022-10-19

公开(公告)号：

CN118160064A

公开(公告)日：

2024-06-07

发明(设计)人：

拉吉夫·巴贾杰

申请人：

拉吉夫·巴贾杰

申请人地址：

美国

IPC主分类号：

H01L21/02

IPC分类号：

B08B1/12

代理机构：

北京智信禾专利代理有限公司 11637

代理人：

吴肖肖

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-06-07	公开	公开
2025-10-14	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移IPC(主分类):H01L 21/02登记生效日:20250922变更事项:申请人变更前权利人:拉吉夫·巴贾杰变更后权利人:超立方材料公司变更事项:国家或地区变更前权利人:美国变更后权利人:美国变更事项:地址变更前权利人:美国变更后权利人:美国加利福尼亚州圣何塞市泰伯尔特大道875号,95127
2024-06-25	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/02申请日:20221019
2025-12-05	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移IPC(主分类):H01L 21/02登记生效日:20251119变更事项:申请人变更前权利人:超立方材料公司变更后权利人:伊利诺斯工具制品有限公司变更事项:国家或地区变更前权利人:美国变更后权利人:美国变更事项:地址变更前权利人:美国加利福尼亚州圣何塞市泰伯尔特大道875号,95127变更后权利人:美国伊利诺伊州

共 50 条

[1]

CMP后清洗设备清洗刷驱动轴结构及使用方法 [P].

陶利权 ;

费玖海 ;

舒福璋 ;

张继静 .

中国专利 :CN106670149A ,2017-05-17

[2]

CMP后清洗设备清洗刷惰轴结构及使用方法 [P].

陶利权 ;

柳滨 ;

史霄 ;

蒲继祖 .

中国专利 :CN106583297A ,2017-04-26

[3]

CMP后清洗过程的干燥装置及方法、CMP后清洗装置及方法 [P].

具滋贤 ;

杨涛 ;

张月 ;

张琦辉 .

中国专利 :CN114628228A ,2022-06-14

[4]

CMP后清洗设备清洗刷同心卡接结构及使用方法 [P].

陶利权 ;

蒲继祖 ;

史霄 ;

尹影 ;

李元升 .

中国专利 :CN106583295A ,2017-04-26

[5]

钨CMP后的清洗方法 [P].

陈华伦 .

中国专利 :CN1967788A ,2007-05-23

[6]

CMP后清洗液组合物 [P].

李锡浩 ;

宋定桓 ;

全成植 ;

赵诚一 ;

韩挪 ;

金炳卓 ;

林娥铉 .

中国专利 :CN106191887B ,2016-12-07

[7]

一种CMP后清洗方法 [P].

姬颖伦 ;

蔡长益 .

中国专利 :CN111069115A ,2020-04-28

[8]

CMP后清洗装置及其使用方法 [P].

朱绍佳 ;

于明非 ;

李虎 ;

张健 .

中国专利 :CN118099034A ,2024-05-28

[9]

用于CMP后清洗的配方和方法 [P].

D·C·坦姆伯利 ;

M·B·拉奥 ;

G·巴尼尔杰 ;

K·R·法布里加斯 .

中国专利 :CN101942667B ,2011-01-12

[10]

一种CMP后清洗装置及其清洗方法 [P].

余涛 ;

唐杰 ;

朴灵绪 .

中国专利 :CN110517975B ,2019-11-29

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