用于光学邻近效应修正的方法、设备和介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311658006.3

申请日：

2023-11-30

公开(公告)号：

CN117389108A

公开(公告)日：

2024-01-12

发明(设计)人：

请求不公布姓名请求不公布姓名请求不公布姓名

申请人：

全芯智造技术有限公司

申请人地址：

230088 安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期J2C栋13楼

IPC主分类号：

G03F1/36

IPC分类号：

G03F7/20

代理机构：

北京世辉律师事务所 16093

代理人：

沈志伟

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

江苏省常州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-01-30	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/36申请日:20231130
2024-01-12	公开	公开
2024-03-12	授权	授权

共 50 条

[1]

用于光学邻近效应修正的方法、设备和介质 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN117389108B ,2024-03-12

[2]

光学邻近效应修正的方法 [P].

谢昌志 ;

林本立 ;

陈明瑞 .

中国专利 :CN1403873A ,2003-03-19

[3]

光学邻近效应修正方法 [P].

许征 ;

孟鸿林 ;

储志浩 .

中国专利 :CN120469147A ,2025-08-12

[4]

光学邻近效应修正方法和系统 [P].

万金垠 ;

王谨恒 ;

张雷 ;

陈洁 .

中国专利 :CN106483758B ,2017-03-08

[5]

建立光学邻近效应修正模型的方法、电子设备和存储介质 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN117950280A ,2024-04-30

[6]

光学邻近效应修正方法、装置、设备及存储介质 [P].

苌现 ;

朱画 ;

张帆 .

中国专利 :CN120993682A ,2025-11-21

[7]

建立光学邻近效应修正模型的方法、电子设备和存储介质 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN117950280B ,2024-06-25

[8]

光学邻近效应修正方法及其修正系统 [P].

乔彦辉 ;

王丹 ;

于世瑞 .

中国专利 :CN110456617A ,2019-11-15

[9]

用于光学邻近效应修正的计算光刻方法及系统 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN109932864B ,2019-06-25

[10]

光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备 [P].

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN120722646A ,2025-09-30

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