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光学邻近效应修正方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510898347.0
申请日
:
2025-06-30
公开(公告)号
:
CN120469147A
公开(公告)日
:
2025-08-12
发明(设计)人
:
许征
孟鸿林
储志浩
申请人
:
上海华力集成电路制造有限公司
申请人地址
:
201314 上海市浦东新区良腾路6号
IPC主分类号
:
G03F1/36
IPC分类号
:
G03F7/20
代理机构
:
上海思捷知识产权代理有限公司 31295
代理人
:
钟晶
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
上海市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-08-29
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/36申请日:20250630
2025-08-12
公开
公开
共 50 条
[1]
光学邻近效应修正方法及其修正系统
[P].
乔彦辉
论文数:
0
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0
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0
乔彦辉
;
王丹
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王丹
;
于世瑞
论文数:
0
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0
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于世瑞
.
中国专利
:CN110456617A
,2019-11-15
[2]
光学邻近效应修正方法和系统
[P].
万金垠
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0
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0
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万金垠
;
王谨恒
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王谨恒
;
张雷
论文数:
0
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0
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张雷
;
陈洁
论文数:
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0
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0
陈洁
.
中国专利
:CN106483758B
,2017-03-08
[3]
一种光学邻近效应修正方法
[P].
黄双龙
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黄双龙
;
倪凌云
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倪凌云
;
黄增智
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0
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0
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黄增智
;
夏睿
论文数:
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夏睿
.
中国专利
:CN110501870A
,2019-11-26
[4]
一种光学邻近效应修正方法
[P].
黄双龙
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机构:
淮安西德工业设计有限公司
淮安西德工业设计有限公司
黄双龙
;
倪凌云
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机构:
淮安西德工业设计有限公司
淮安西德工业设计有限公司
倪凌云
;
黄增智
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机构:
淮安西德工业设计有限公司
淮安西德工业设计有限公司
黄增智
;
夏睿
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机构:
淮安西德工业设计有限公司
淮安西德工业设计有限公司
夏睿
.
中国专利
:CN110501870B
,2024-03-15
[5]
一种光学邻近效应修正方法
[P].
刘娟
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刘娟
.
中国专利
:CN102103324A
,2011-06-22
[6]
光学邻近效应的修正方法
[P].
罗连波
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
罗连波
;
刘文东
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
刘文东
;
丁丽华
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
丁丽华
;
程仁强
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
程仁强
.
中国专利
:CN117518726A
,2024-02-06
[7]
光学邻近效应的修正方法
[P].
康帅
论文数:
0
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0
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0
康帅
.
中国专利
:CN115453815A
,2022-12-09
[8]
光学邻近效应的修正方法
[P].
朱画
论文数:
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机构:
杭州富芯半导体有限公司
杭州富芯半导体有限公司
朱画
;
苌现
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机构:
杭州富芯半导体有限公司
杭州富芯半导体有限公司
苌现
;
张帆
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0
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机构:
杭州富芯半导体有限公司
杭州富芯半导体有限公司
张帆
.
中国专利
:CN121187063A
,2025-12-23
[9]
光学邻近效应修正的方法
[P].
谢昌志
论文数:
0
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谢昌志
;
林本立
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林本立
;
陈明瑞
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0
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陈明瑞
.
中国专利
:CN1403873A
,2003-03-19
[10]
光学邻近效应修正方法、装置、设备及存储介质
[P].
苌现
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机构:
杭州富芯半导体有限公司
杭州富芯半导体有限公司
苌现
;
朱画
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机构:
杭州富芯半导体有限公司
杭州富芯半导体有限公司
朱画
;
张帆
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机构:
杭州富芯半导体有限公司
杭州富芯半导体有限公司
张帆
.
中国专利
:CN120993682A
,2025-11-21
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