一种低损耗、高反射率的193nm薄膜及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410284689.9

申请日：

2024-03-13

公开(公告)号：

CN117991427A

公开(公告)日：

2024-05-07

发明(设计)人：

焦宏飞钮信尚李英夫张锦龙汲小川夏菁菁程鑫彬王占山

申请人：

同济大学

申请人地址：

200092 上海市杨浦区四平路1239号

IPC主分类号：

G02B5/08

IPC分类号：

C23C14/30 C23C14/54 C23C14/06

代理机构：

北京圣州专利代理事务所(普通合伙) 11818

代理人：

王宇航

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-05-24	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G02B 5/08申请日:20240313
2024-05-07	公开	公开
2024-08-09	授权	授权

共 50 条

[1]

一种低损耗、高反射率的193nm薄膜及其制备方法 [P].

焦宏飞 ;

钮信尚 ;

李英夫 ;

张锦龙 ;

汲小川 ;

夏菁菁 ;

程鑫彬 ;

王占山 .

中国专利 :CN117991427B ,2024-08-09

[2]

一种低散射损耗的高反射薄膜 [P].

张锦龙 ;

程鑫彬 ;

焦宏飞 ;

吴晗 ;

王占山 .

中国专利 :CN107748404A ,2018-03-02

[3]

一种高反射率光学薄膜制备方法及高反射率光学薄膜 [P].

郑亮亮 ;

汤文成 ;

陈名扬 ;

何悦祺 ;

王利新 .

中国专利 :CN120056405A ,2025-05-30

[4]

一种高反射率光学薄膜制备方法及高反射率光学薄膜 [P].

郑亮亮 ;

汤文成 ;

陈名扬 ;

何悦祺 ;

王利新 .

中国专利 :CN120056405B ,2025-07-25

[5]

一种硫系玻璃基底低剩余反射率减反射薄膜及其制备方法 [P].

冷健 ;

刘华松 ;

季一勤 ;

庄克文 ;

何家欢 .

中国专利 :CN110989053B ,2020-04-10

[6]

一种反射率大于95%的高反射膜层结构及其制造方法 [P].

郑建军 ;

朱常青 ;

秦家春 ;

吕如军 .

中国专利 :CN119355858A ,2025-01-24

[7]

一种低散射损耗的高反射薄膜、制造方法及设备 [P].

周华拥 .

中国专利 :CN112462458A ,2021-03-09

[8]

一种高反射率极紫外多层膜及其制备方法 [P].

高俊华 ;

李西军 .

中国专利 :CN117406316A ,2024-01-16

[9]

一种低损耗反射镜 [P].

刘希强 ;

苏宇 ;

薛青云 .

中国专利 :CN106507977B ,2014-03-05

[10]

一种具有高反射率的PET反射膜 [P].

朱海娟 ;

洪丹燕 .

中国专利 :CN216411620U ,2022-04-29

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