掩膜版测量装置

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202322396132.8
申请日
2023-09-05
公开(公告)号
CN220773416U
公开(公告)日
2024-04-12
发明(设计)人
梁宇辰 李华
申请人
上海探跃半导体设备有限公司
申请人地址
200000 上海市浦东新区宣桥镇宣秋路210号E幢1楼北侧101室
IPC主分类号
G03F1/84
IPC分类号
代理机构
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
许利波
法律状态
授权
国省代码
上海市 市辖区
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共 50 条
[1]
掩膜版 [P]. 
李伟 ;
刘富军 ;
朱杰 ;
魏崇喜 .
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[2]
掩膜版夹具及晶圆曝光装置 [P]. 
周阳 ;
葛伟伟 ;
黄志凯 .
中国专利 :CN207611234U ,2018-07-13
[3]
一种掩膜版缺陷的修复方法、掩膜版的制备方法及掩膜版 [P]. 
张哲玮 ;
王梅侠 .
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[4]
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吴秀珍 ;
吴康敬 ;
孙阳 ;
孙扬 .
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[5]
子掩膜版及掩膜版 [P]. 
谢飞 ;
苏胜利 ;
张佳成 ;
周俊吉 .
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[6]
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陈宁 ;
郭炜 ;
王路 .
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[7]
掩膜版及掩膜版组 [P]. 
陈宁 ;
郭炜 ;
王路 .
中国专利 :CN201974632U ,2011-09-14
[8]
掩膜版异物清除方法及掩膜版异物清除装置 [P]. 
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[9]
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[10]
掩膜版 [P]. 
刘明星 ;
王徐亮 ;
甘帅燕 ;
高峰 ;
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