具有气隙的半导体元件

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110415829.8
申请日
2021-04-19
公开(公告)号
CN113555341B
公开(公告)日
2024-05-24
发明(设计)人
徐嘉祥
申请人
南亚科技股份有限公司
申请人地址
中国台湾新北市
IPC主分类号
H01L23/528
IPC分类号
H01L21/768
代理机构
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
谢强;黄艳
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
具有气隙的半导体元件 [P]. 
徐嘉祥 .
中国专利 :CN113555341A ,2021-10-26
[2]
具有气隙的半导体元件 [P]. 
黄则尧 .
中国专利 :CN118039600A ,2024-05-14
[3]
具有气隙的半导体元件 [P]. 
黄至伟 ;
樊旭诚 ;
颜志羽 .
中国专利 :CN119108373A ,2024-12-10
[4]
具有气隙的半导体元件结构 [P]. 
黄至伟 .
中国专利 :CN119545785A ,2025-02-28
[5]
具有气隙的半导体元件的制备方法 [P]. 
黄至伟 ;
樊旭诚 ;
颜志羽 .
中国专利 :CN119108374A ,2024-12-10
[6]
具有气隙的半导体元件及其制备方法 [P]. 
黄至伟 .
中国专利 :CN121192085A ,2025-12-23
[7]
具有气隙的半导体元件及其制备方法 [P]. 
黄则尧 .
中国专利 :CN117479534A ,2024-01-30
[8]
具有气隙的半导体元件及其制备方法 [P]. 
周良宾 .
中国专利 :CN112447724A ,2021-03-05
[9]
具有气隙的半导体元件及其制备方法 [P]. 
吴智琮 .
中国专利 :CN112582373A ,2021-03-30
[10]
具有气隙的半导体元件及其制备方法 [P]. 
周良宾 .
中国专利 :CN112447724B ,2024-03-19