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具有气隙的半导体元件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110415829.8
申请日
:
2021-04-19
公开(公告)号
:
CN113555341B
公开(公告)日
:
2024-05-24
发明(设计)人
:
徐嘉祥
申请人
:
南亚科技股份有限公司
申请人地址
:
中国台湾新北市
IPC主分类号
:
H01L23/528
IPC分类号
:
H01L21/768
代理机构
:
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
:
谢强;黄艳
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-05-24
授权
授权
共 50 条
[1]
具有气隙的半导体元件
[P].
徐嘉祥
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
徐嘉祥
.
中国专利
:CN113555341A
,2021-10-26
[2]
具有气隙的半导体元件
[P].
黄则尧
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
黄则尧
.
中国专利
:CN118039600A
,2024-05-14
[3]
具有气隙的半导体元件
[P].
黄至伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
黄至伟
;
樊旭诚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
樊旭诚
;
颜志羽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
颜志羽
.
中国专利
:CN119108373A
,2024-12-10
[4]
具有气隙的半导体元件结构
[P].
黄至伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
黄至伟
.
中国专利
:CN119545785A
,2025-02-28
[5]
具有气隙的半导体元件的制备方法
[P].
黄至伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
黄至伟
;
樊旭诚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
樊旭诚
;
颜志羽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
颜志羽
.
中国专利
:CN119108374A
,2024-12-10
[6]
具有气隙的半导体元件及其制备方法
[P].
黄至伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
黄至伟
.
中国专利
:CN121192085A
,2025-12-23
[7]
具有气隙的半导体元件及其制备方法
[P].
黄则尧
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
黄则尧
.
中国专利
:CN117479534A
,2024-01-30
[8]
具有气隙的半导体元件及其制备方法
[P].
周良宾
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
周良宾
.
中国专利
:CN112447724A
,2021-03-05
[9]
具有气隙的半导体元件及其制备方法
[P].
吴智琮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
吴智琮
.
中国专利
:CN112582373A
,2021-03-30
[10]
具有气隙的半导体元件及其制备方法
[P].
周良宾
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
周良宾
.
中国专利
:CN112447724B
,2024-03-19
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