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等离子体处理装置和等离子体生成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202111079857.3
申请日
:
2021-09-15
公开(公告)号
:
CN114256049B
公开(公告)日
:
2024-04-16
发明(设计)人
:
齐藤均
町山弥
佐佐木和男
申请人
:
东京毅力科创株式会社
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J37/32
IPC分类号
:
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;池兵
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-04-16
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体生成方法
[P].
齐藤均
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齐藤均
;
町山弥
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町山弥
;
佐佐木和男
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佐佐木和男
.
中国专利
:CN114256049A
,2022-03-29
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
西野雅
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西野雅
;
真壁正嗣
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真壁正嗣
;
长山将之
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长山将之
;
半田达也
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半田达也
;
绿川良太郎
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绿川良太郎
;
小林启悟
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小林启悟
;
仁矢铁也
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仁矢铁也
.
中国专利
:CN103959447A
,2014-07-30
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
齐藤均
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
齐藤均
;
佐佐木和男
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐佐木和男
;
植松治志
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
植松治志
.
日本专利
:CN116110770B
,2025-06-13
[4]
等离子体处理装置和等离子体分布调整方法
[P].
佐佐木和男
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佐佐木和男
;
齐藤均
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齐藤均
;
山泽阳平
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山泽阳平
;
古屋敦城
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古屋敦城
;
内藤启
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内藤启
.
中国专利
:CN104282520B
,2015-01-14
[5]
等离子体处理装置和等离子体分布调整方法
[P].
佐佐木和男
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佐佐木和男
;
齐藤均
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齐藤均
;
山泽阳平
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山泽阳平
;
古屋敦城
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古屋敦城
;
内藤启
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内藤启
.
中国专利
:CN108203816B
,2018-06-26
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
池田太郎
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池田太郎
.
中国专利
:CN1554114A
,2004-12-08
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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舆水地盐
;
山泽阳平
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山泽阳平
.
中国专利
:CN102522304A
,2012-06-27
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
里吉务
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里吉务
;
佐藤亮
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佐藤亮
;
佐佐木和男
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佐佐木和男
;
齐藤均
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齐藤均
.
中国专利
:CN100543944C
,2005-11-09
[9]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
道菅隆
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
道菅隆
;
久保田绅治
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
久保田绅治
.
日本专利
:CN111048389B
,2024-09-20
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
塚原利也
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
塚原利也
;
山边周平
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山边周平
;
谷地晃汰
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
谷地晃汰
;
佐藤徹治
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤徹治
;
内田阳平
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
内田阳平
;
铃木步太
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
铃木步太
;
田村洋典
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
田村洋典
;
花冈秀敏
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
花冈秀敏
;
佐佐木淳一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐佐木淳一
.
日本专利
:CN111261511B
,2024-06-18
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