等离子体处理装置和等离子体生成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202111079857.3
申请日
2021-09-15
公开(公告)号
CN114256049B
公开(公告)日
2024-04-16
发明(设计)人
齐藤均 町山弥 佐佐木和男
申请人
东京毅力科创株式会社
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01J37/32
IPC分类号
代理机构
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
龙淳;池兵
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体生成方法 [P]. 
齐藤均 ;
町山弥 ;
佐佐木和男 .
中国专利 :CN114256049A ,2022-03-29
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
西野雅 ;
真壁正嗣 ;
长山将之 ;
半田达也 ;
绿川良太郎 ;
小林启悟 ;
仁矢铁也 .
中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
齐藤均 ;
佐佐木和男 ;
植松治志 .
日本专利 :CN116110770B ,2025-06-13
[4]
等离子体处理装置和等离子体分布调整方法 [P]. 
佐佐木和男 ;
齐藤均 ;
山泽阳平 ;
古屋敦城 ;
内藤启 .
中国专利 :CN104282520B ,2015-01-14
[5]
等离子体处理装置和等离子体分布调整方法 [P]. 
佐佐木和男 ;
齐藤均 ;
山泽阳平 ;
古屋敦城 ;
内藤启 .
中国专利 :CN108203816B ,2018-06-26
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
池田太郎 .
中国专利 :CN1554114A ,2004-12-08
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 ;
山泽阳平 .
中国专利 :CN102522304A ,2012-06-27
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
里吉务 ;
佐藤亮 ;
佐佐木和男 ;
齐藤均 .
中国专利 :CN100543944C ,2005-11-09
[9]
等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
道菅隆 ;
久保田绅治 .
日本专利 :CN111048389B ,2024-09-20
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
塚原利也 ;
山边周平 ;
谷地晃汰 ;
佐藤徹治 ;
内田阳平 ;
铃木步太 ;
田村洋典 ;
花冈秀敏 ;
佐佐木淳一 .
日本专利 :CN111261511B ,2024-06-18