等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202211354572.0

申请日：

2022-11-01

公开(公告)号：

CN116110770B

公开(公告)日：

2025-06-13

发明(设计)人：

齐藤均佐佐木和男植松治志

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;池兵

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-13	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

金子和史 .

中国专利 :CN114302547A ,2022-04-08

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

中国专利 :CN113936985A ,2022-01-14

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

日本专利 :CN113936985B ,2025-03-11

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

加贺谷宗仁 ;

川上聪 ;

守屋刚 ;

松土龙夫 ;

山涌纯 ;

小野田裕之 .

日本专利 :CN113557797B ,2024-07-12

[5]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

小笠原幸辅 ;

山口贤太郎 ;

伴瀬贵德 .

中国专利 :CN111819667A ,2020-10-23

[6]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

小笠原幸辅 ;

山口贤太郎 ;

伴瀬贵德 .

日本专利 :CN111819667B ,2024-10-29

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

加贺谷宗仁 ;

川上聪 ;

守屋刚 ;

松土龙夫 ;

山涌纯 ;

小野田裕之 .

中国专利 :CN113557797A ,2021-10-26

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

池田太郎 .

中国专利 :CN1554114A ,2004-12-08

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 ;

冈信介 .

中国专利 :CN100536634C ,2006-11-15

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