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等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202211354572.0
申请日：
2022-11-01
公开(公告)号：
CN116110770B
公开(公告)日：
2025-06-13
发明(设计)人：
齐藤均 佐佐木和男 植松治志
申请人：
东京毅力科创株式会社
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01J37/32
IPC分类号：
代理机构：
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人：
龙淳;池兵
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-06-13 授权 授权
共 50 条
[41]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
藤井徹 ;
今田祥友 ;
大槻兴平 .
日本专利 :CN111383899B ,2024-07-12
[42]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
樋口龙太 ;
齐藤武尚 ;
中岛俊希 ;
北邨友志 .
日本专利 :CN120457773A ,2025-08-08
[43]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
东条利洋 ;
齐藤均 ;
佐藤亮 .
中国专利 :CN101277579B ,2008-10-01
[44]
等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
大矢欣伸 ;
田边明良 ;
安田吉纪 .
中国专利 :CN102376559A ,2012-03-14
[45]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
吹野康彦 ;
丸山智久 .
中国专利 :CN103839748A ,2014-06-04
[46]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
池田太郎 ;
久保敦史 ;
镰田英纪 ;
山本伸彦 .
日本专利 :CN112509900B ,2024-05-31
[47]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
田吹圭司 ;
户根川大和 ;
五十岚一将 ;
矢部和雄 .
中国专利 :CN113921361A ,2022-01-11
[48]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 .
日本专利 :CN119422441A ,2025-02-11
[49]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
樋口龙太 ;
中岛俊希 .
日本专利 :CN120570068A ,2025-08-29
[50]
等离子体处理装置和等离子体生成方法 [P]. 
齐藤均 ;
町山弥 ;
佐佐木和男 .
中国专利 :CN114256049A ,2022-03-29
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