等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202211354572.0

申请日：

2022-11-01

公开(公告)号：

CN116110770B

公开(公告)日：

2025-06-13

发明(设计)人：

齐藤均佐佐木和男植松治志

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;池兵

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-13	授权	授权

共 50 条

[21]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

江藤隆纪 ;

泽田石真之 .

中国专利 :CN109390229A ,2019-02-26

[22]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

中国专利 :CN110544613A ,2019-12-06

[23]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

塚原利也 ;

山边周平 ;

谷地晃汰 ;

佐藤徹治 ;

内田阳平 ;

铃木步太 ;

田村洋典 ;

花冈秀敏 ;

佐佐木淳一 .

中国专利 :CN111261511A ,2020-06-09

[24]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

大矢欣伸 ;

田边明良 ;

安田吉纪 .

中国专利 :CN104599930A ,2015-05-06

[25]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

丸山幸儿 ;

堀口将人 ;

松木哲理 ;

舆石公 .

中国专利 :CN105379428B ,2016-03-02

[26]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

阪根亮太 ;

小林秀行 ;

长畑寿 ;

罗重佑 .

中国专利 :CN108172493B ,2018-06-15

[27]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松本直树 ;

早川欣延 ;

花冈秀敏 ;

儿玉法明 ;

舆水地盐 ;

岩田学 ;

田中谕志 .

中国专利 :CN101047113A ,2007-10-03

[28]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

久保田绅治 .

中国专利 :CN110323121A ,2019-10-11

[29]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

藤原直树 ;

大秦充敬 ;

竹内贵广 .

中国专利 :CN114121589A ,2022-03-01

[30]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

上坂友佑人 ;

斋野高遥 .

日本专利 :CN119404600A ,2025-02-07

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