等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202211354572.0

申请日：

2022-11-01

公开(公告)号：

CN116110770B

公开(公告)日：

2025-06-13

发明(设计)人：

齐藤均佐佐木和男植松治志

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;池兵

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-13	授权	授权

共 50 条

[11]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

里吉务 ;

佐藤亮 ;

佐佐木和男 ;

齐藤均 .

中国专利 :CN100543944C ,2005-11-09

[12]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN113170568A ,2021-07-23

[13]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 .

日本专利 :CN117480870B ,2024-06-28

[14]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

米泽亮太 ;

高桥哲朗 ;

大崎良规 ;

铃木公贵 ;

齐藤智博 ;

山下润 ;

佐藤吉宏 ;

盐泽俊彦 ;

山崎幸一 ;

古木和弘 .

中国专利 :CN102753727A ,2012-10-24

[15]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

笹川大成 ;

熊仓翔 .

中国专利 :CN113745103A ,2021-12-03

[16]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

塚原利也 ;

山边周平 ;

谷地晃汰 ;

佐藤徹治 ;

内田阳平 ;

铃木步太 ;

田村洋典 ;

花冈秀敏 ;

佐佐木淳一 .

日本专利 :CN111261511B ,2024-06-18

[17]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

田井将纪 .

日本专利 :CN120036053A ,2025-05-23

[18]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

竹内贵广 ;

小林宪 .

中国专利 :CN114188208A ,2022-03-15

[19]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西野雅 ;

真壁正嗣 ;

长山将之 ;

半田达也 ;

绿川良太郎 ;

小林启悟 ;

仁矢铁也 .

中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30

[20]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

田才忠 ;

野泽俊久 .

中国专利 :CN101347051B ,2009-01-14

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